對冷軋帶鋼來說，其在退火爐退火時加熱速度越快，則在不同溫度區(qū)域停留時間較短，所需再結(jié)晶溫度越高;反之，帶鋼在退火時加熱速度較慢，即在均熱區(qū)域停留時間較長，則再結(jié)晶溫度就越低口]。這就產(chǎn)生了高再結(jié)晶溫度退熾熱周期和低再結(jié)晶溫度退熾熱周期。

　　退火爐高再結(jié)晶溫度退熾熱周期就是將帶鋼加熱到峰值溫度后立即快速冷卻(有時在快速冷卻前先進行短時間的慢冷，以取得穩(wěn)定的金屬結(jié)構(gòu))，真空氣氛爐其優(yōu)勢是可應用在較短的、不雜亂的(投資少的)生產(chǎn)線上;不足是帶鋼被加熱到較高溫度，而在冷卻過程中又被浪費掉了，故消耗能量較多。

退火爐是一種用于制作半導體器材的工藝，它包括加熱幾個半導體晶片以影響其電功用。熱處理是為不同的效能而規(guī)劃的。硅片可以加熱以激起摻雜劑，將薄膜轉(zhuǎn)換成薄膜或?qū)⒈∧まD(zhuǎn)換成晶圓-基板界面，從而改動細密堆積的薄膜，恢復生長的薄膜，恢復注入的損處，移動摻雜劑或?qū)诫s劑從一個薄膜轉(zhuǎn)移到另一個薄膜或從薄膜轉(zhuǎn)移到硅片。退火爐分為電加熱爐、燃煤退火爐、燃油退火爐、退火爐和氣體退火爐，其間自備煤氣發(fā)生爐生產(chǎn)的氣體退火爐使用較為廣。

把冷軋薄板鋼卷堆垛在以爐臺和波紋內(nèi)罩構(gòu)成的一個密閉空間里，用加熱爐罩給波紋內(nèi)罩加熱，密閉空間里以全氫/高氫氣體作為熱傳遞介質(zhì)維護氣體（氫氣的熱傳導功率很高），以循環(huán)風機的高速旋轉(zhuǎn)構(gòu)成對氫氣的強對流循環(huán)，以吸收波紋內(nèi)罩上的熱量傳遞給鋼卷，然后抵達給帶鋼加熱進行熱處理的目的。另外，氫氣不但對帶鋼具有防氧化的效果，并且對帶鋼上的鐵銹具有還原效果，這樣就完成了帶鋼的亮光退火。