白色拋光皮的使用優(yōu)勢(shì)研磨耗材

白色拋光皮的使用優(yōu)勢(shì) 研磨耗材是研磨機(jī)工作不可缺少的部分，再研磨拋光工序中，經(jīng)常需要用到拋光皮、研磨液、研磨盤(pán)等耗材。拋光皮主要有白色拋光皮、黑色拋光皮以及粗磨皮。接下來(lái)我們主要來(lái)了解白色拋光皮的使用優(yōu)勢(shì)有哪些？ 白色拋光皮普遍采用羊毛，呈圓形，而東研生產(chǎn)的白色拋光皮有2.0mm和3.0mm兩種厚度。百色市拋光皮主要應(yīng)用于塑膠、不銹鋼、閥片等，常配合研磨機(jī)使用，中磨，研磨的品質(zhì)穩(wěn)定。 不過(guò)在實(shí)際使用過(guò)程中，大家要注意粘貼喲啊貼平整，勿出現(xiàn)氣泡，且在研磨加工完后需要清潔干凈。

平面研磨機(jī)研磨加工的步驟流程介紹

平面研磨機(jī)研磨加工的步驟流程介紹 研磨利用涂敷或壓嵌在研具上的磨料顆粒，通過(guò)研具與工件在一定壓力下的相對(duì)運(yùn)動(dòng)對(duì)加工表面進(jìn)行的精整加工（如切削加工）。研磨可用于加工各種金屬和非金屬材料，加工的表面形狀有平面，內(nèi)、外圓柱面和圓錐面，凸、凹球面，螺紋，齒面及其他型面。加工精度可達(dá)IT5～I(xiàn)T01，表面粗糙度可達(dá)Ra0.63～0.01微米。平面研磨機(jī)廣泛用于LED藍(lán)寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、模具、導(dǎo)光板、光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光。下面是關(guān)于平面研磨機(jī)加工的具體流程。 1、利用涂敷或壓嵌在研具上的磨料顆粒，通過(guò)研具與工件在一定壓力下的相對(duì)運(yùn)動(dòng)對(duì)加工表面進(jìn)行的精整加工、研磨可用于加工各種金屬和非金屬材料，加工的表面形狀有平面，內(nèi)、外圓柱面和圓錐面，凸、凹球面，螺紋，齒面及其它型面。加工精度可達(dá)IT5～01，表面粗糙度可達(dá)R0.63～0.01微米。 2、平面研磨機(jī)研磨方法一般可分為濕研、干研和半干研3類(lèi)。①濕研：又稱(chēng)敷砂研磨，把液態(tài)研磨劑連續(xù)加注或涂敷在研磨表面，磨料在工件與研具間不斷滑動(dòng)和滾動(dòng)，形成切削運(yùn)動(dòng)。②濕研一般用于粗研磨，所用微粉磨料粒度粗于W7。③干研：又稱(chēng)嵌砂研磨，把磨料均勻在壓嵌在研具表面層中,研磨時(shí)只須在研具表面涂以少量的硬脂酸混合脂等輔助材料。 4、正確處理平面研磨機(jī)進(jìn)行研磨的運(yùn)動(dòng)軌跡是提高研磨質(zhì)量的重要條件。在平面研磨中，一般要求：①工件相對(duì)研具的運(yùn)動(dòng)，要盡量保證工件上各點(diǎn)的研磨行程長(zhǎng)度相近；②工件運(yùn)動(dòng)軌跡均勻地遍及整個(gè)研具表面，以利于研具均勻磨損；③運(yùn)動(dòng)軌跡的曲率變化要小，以保證工件運(yùn)動(dòng)平穩(wěn)；④工件上任一點(diǎn)的運(yùn)動(dòng)軌跡盡量避免過(guò)早出現(xiàn)周期性重復(fù)。為了減少切削熱，研磨一般在低壓低速條件下進(jìn)行。粗研的壓力不超過(guò)0.3兆帕，精研壓力一般采用0.03～0.05兆帕。粗研速度一般為20～120米/分，精研速度一般取10～30米/分。

平面研磨機(jī)需要進(jìn)行修盤(pán)的原因分析

平面研磨機(jī)需要進(jìn)行修盤(pán)的原因分析 在平面精密研磨過(guò)程中，研磨盤(pán)的精度是決定研磨工件品質(zhì)的重要因素。我們都知道平面研磨機(jī)的磨盤(pán)在經(jīng)過(guò)一段時(shí)間的研磨過(guò)后，由于磨盤(pán)磨損強(qiáng)度不均勻會(huì)導(dǎo)致研磨盤(pán)不平整，在后面研磨的工件加工質(zhì)量會(huì)變得參數(shù)不一致，而且磨盤(pán)表面磨粒與粘結(jié)劑形成的微孔會(huì)被磨屑淤塞，造成磨削效率下降。研磨盤(pán)的平面度是影響高精密研磨加工品質(zhì)的關(guān)鍵因素。 不平整的研磨盤(pán)會(huì)造成研磨壓力的不均勻，導(dǎo)致擺放在放料架具結(jié)輪片上不同位置的工件加工厚度不一致，嚴(yán)重時(shí)還會(huì)影響工件的平面度與其他質(zhì)量參數(shù)。因此，平面研磨機(jī)就必須采用修盤(pán)器來(lái)修整研磨盤(pán)。采用材料相對(duì)來(lái)說(shuō)較硬的修盤(pán)器來(lái)對(duì)磨盤(pán)進(jìn)行修整，使其露出新的，平整的研磨表面。研磨盤(pán)的修整采用修盤(pán)器與研磨盤(pán)互研的方法，通過(guò)調(diào)整中心齒輪、外齒輪圈以及上下盤(pán)的轉(zhuǎn)速，從而得到修整研磨盤(pán)磨石的不同效果。平面研磨機(jī)修盤(pán)時(shí)的工藝參數(shù)對(duì)研磨盤(pán)的修整效果需要長(zhǎng)時(shí)間的經(jīng)驗(yàn)積累，同時(shí)還與工藝條件操作都經(jīng)驗(yàn)技術(shù)相關(guān)。一般來(lái)說(shuō)在選購(gòu)平面研磨機(jī)時(shí)選購(gòu)自帶修盤(pán)的，這樣不僅能保證加工產(chǎn)品的質(zhì)量，同時(shí)也為日后機(jī)器修盤(pán)方便快捷。

研磨壓力及研磨速度的知識(shí)介紹

有關(guān)研磨壓力及研磨速度的知識(shí)介紹 研磨壓力是影響研磨加工過(guò)程的重要工藝參數(shù)。施加于研具上的力，通過(guò)磨粒而作用到被研磨表面上。研磨壓力對(duì)研磨劑中的磨粒濃度選擇有一定的影響。 當(dāng)磨粒粒度確定后，對(duì)于某一確定單位研磨壓力，有一個(gè)產(chǎn)生較大生產(chǎn)率的磨料濃度。單位濃度過(guò)小，研磨作用就很微弱。隨著單位壓力的增大，研磨作用增加，研磨效率提高，但當(dāng)單位壓力增加到某一數(shù)值后呈現(xiàn)寶盒傾向，研磨效率達(dá)到較大值。此后若再增加研磨壓力，效率反而下降。具體分析為磨粒具有一定的抗壓強(qiáng)度極限，當(dāng)超過(guò)此極限時(shí)就會(huì)被壓碎，使磨料變細(xì)，研磨能力下降。一般粗研壓力控制在0.2MPa~0.4MPa，精研壓力控制在0.04MPa~0.1MPa。 研磨速度是控制余量去除速度和研磨表面質(zhì)量的重要工藝參數(shù)。為了獲得規(guī)定的表面粗糙度而必須耗費(fèi)的研磨時(shí)間大于去除余量所需的時(shí)間，就應(yīng)適當(dāng)降低研磨速度，反之一樣，而平面研磨時(shí)速度可參照表2選取研磨速度。研磨速度對(duì)余量去除和表面粗糙度的影響對(duì)研具的磨損影響很大。研磨速度過(guò)快時(shí)，研具急劇磨損，可能引起工件的熱變形，直接影響加工精度。因此，為了避免研磨磨損過(guò)快，可根據(jù)實(shí)際情況。