上述兩種拋光作用是不同的，以鋼在磷酸型拋光液中的拋光為例說明。在拋光過程中鋼的電極電位和溶解速度隨濃度的變化情況如圖4-2所示。即隨著濃度的增加，鋼材的電極電位也逐漸提高，同時溶解速度隨之減小。鋼的平滑化是由低電位區(qū)域的溶解作用形成的，而光澤化則是由高電位區(qū)域的溶解作用形成的。鋼表面電位的升高是由表面形成的一些穩(wěn)定的氧化膜固體所致，正是由于這種穩(wěn)定氧化膜的形成，使零件光澤化。而平滑化可能是由金屬離子或溶解生成物的擴(kuò)散層導(dǎo)致的。

1. 機(jī)械拋光 機(jī)械拋光是靠切削、材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方法，一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等，以手工操作為主，特殊零件如回轉(zhuǎn)體表面，可使用轉(zhuǎn)臺等輔助工具，表面質(zhì)量要求高的可采用超精研拋的方法。超精研拋是采用的磨具，在含有磨料的研拋液中，緊壓在工件被加工表面上，作高速旋轉(zhuǎn)運動。利用該技術(shù)可以達(dá)到Ra0.008μm的表面粗糙度，是各種拋光方法中的。光學(xué)鏡片模具常采用這種方法。

原理：化學(xué)拋光是靠化學(xué)試劑的化學(xué)浸蝕作用對樣品表面凹凸不平區(qū)域的選擇性溶解作用消除磨痕、浸蝕整平的一種方法?；瘜W(xué)拋光設(shè)備簡單，能夠處理細(xì)管、帶有深孔及形狀復(fù)雜的零件，生產(chǎn)?；瘜W(xué)拋光可作為電鍍預(yù)處理工序，也可在拋光后輔助以必要的防護(hù)措施直接使用。

化學(xué)拋光是一種將金相樣品浸入調(diào)配的化學(xué)拋光液中，借化學(xué)藥劑的溶解作用而得到的拋光表面的拋光方法?；瘜W(xué)拋光是常見的金相樣品拋光方法之一，這種方法操作簡便，不需任何儀器設(shè)備，只需要選擇適當(dāng)?shù)幕瘜W(xué)拋光液和掌握的拋光規(guī)范，就能快速得到較理想的光潔而無變形層的表面。

基本原理：

金屬試樣表面各組成相的電化學(xué)電位不同，形成了許多微電勢，在化學(xué)溶液中會產(chǎn)生不均勻溶解。在溶解過程中試樣面表層會產(chǎn)生一層氧化膜，試樣表面凸出部分由于粘膜薄，金屬的溶解擴(kuò)展速度較慢，拋光后的表面光滑，但形成有小的起伏波形，不能達(dá)到十分理想的要求。在低和中等放大倍數(shù)下利用顯微鏡觀察時，這種小的起伏一般在物鏡垂直鑒別能力之內(nèi)，仍能觀察到十分清晰的組織