反滲透EDI工藝都是一個(gè)理想的選擇

EDI的凈水基本過程： （1）連續(xù)運(yùn)行，產(chǎn)品水水質(zhì)穩(wěn)定 （2）容易實(shí)現(xiàn)全自動控制 （3）無須用酸堿再生 （4）不會因再生而停機(jī)，節(jié)省了再生用水及再生污水處理設(shè)施 （5）產(chǎn)水率高（可達(dá)95%）。 EDI裝置屬于精處理水系統(tǒng)，一般多與反滲透（RO）配合使用，組成預(yù)處理、反滲透、EDI裝置的超純水處理系統(tǒng)，取代了傳統(tǒng)水處理工藝的混合離子交換設(shè)備。EDI裝置進(jìn)水要求為電阻率為0.025-0.5MΩ·cm，反滲透裝置完全可以滿足要求。EDI裝置可生產(chǎn)電阻率高達(dá)15MΩ·cm以上的超純水。 對于高純水系統(tǒng)，無論從產(chǎn)水質(zhì)量、性能和操作等方面考慮，還是從運(yùn)行費(fèi)用和環(huán)保等方面考慮，反滲透 EDI工藝都是一個(gè)理想的選擇。

EDI膜塊被污染堵塞可以從以下幾個(gè)方面進(jìn)行評估

通常判斷 EDI 膜塊被污染堵塞可以從以下幾個(gè)方面進(jìn)行評估判定： 1、在進(jìn)水溫度、流量不變的情況下，進(jìn)水側(cè)與產(chǎn)水側(cè)的壓差比原始數(shù)據(jù)升高 45%。 2、在進(jìn)水溫度、流量不變的情況下，濃水進(jìn)水側(cè)與濃水排水側(cè)的壓差比原始數(shù)據(jù)升高45%。 3、在進(jìn)水溫度、流量及電導(dǎo)率不變的情況下，產(chǎn)水水質(zhì)（電阻率）明顯下降。 4、在進(jìn)水溫度、流量不變的情況下，濃水排水流量下降35%。 膜塊堵塞的原因主要有下面幾種形式： 1、顆粒/膠體污堵 2、無機(jī)物污堵 3、有機(jī)物污堵 4、微生物污堵 EDI 清洗注意：在清洗或消毒之前請先選擇合適的化學(xué)藥劑并熟悉安全操作規(guī)程，切不可在組件電源沒有切斷的狀態(tài)下進(jìn)行化學(xué)清洗。

水處理設(shè)備純水所有配套

水處理設(shè)備純水所有配套：原水箱、增壓泵、精密過濾器、活性炭過濾器、全自動軟水器、管路、閥門、一級增壓泵、二級增壓泵、反滲透膜、反滲透膜殼、膜架、控制系統(tǒng)進(jìn)水、電磁閥、沖洗電磁閥、調(diào)壓閥、高壓開關(guān)、低壓開關(guān)、精密過濾器、管路、閥門。 水處理設(shè)備純水特點(diǎn)： 1、脫鹽率高，在進(jìn)行處理的過程中能去除水中的細(xì)菌、病毒、有機(jī)污染物等，出水水質(zhì)高。 2、反滲透膜采用的事美國進(jìn)口復(fù)合膜元件，進(jìn)水要求低、適應(yīng)能力強(qiáng)。 3、自動化程度高。 4、適用范圍廣。 5、適合進(jìn)行高純水的處理。