真空鍍膜技術(shù)是真空應(yīng)用技術(shù)的一個重要分支，它已廣泛地應(yīng)用于光學(xué)、電子學(xué)、能源開發(fā)，理化儀器、建筑機械、包裝、民用制品、表面科學(xué)以及科學(xué)研究等領(lǐng)域中。真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積鍍以及分子束外延等。此外還有化學(xué)氣相沉積法。國內(nèi)真空離子鍍膜機經(jīng)過幾十年的發(fā)展，相對于國外鍍膜設(shè)備而言，在自動化程度與技術(shù)上取得了一定的進步，但在鍍膜產(chǎn)品穩(wěn)定性和性方面尚需提升，設(shè)備仍依賴進口。如果真空鍍膜的目的是為了改變物質(zhì)表面的物理、化學(xué)性能，則這一技術(shù)又是真空鍍膜處理技術(shù)中的重要組成部分。

真空鍍膜設(shè)備主要由真空腔、抽氣系統(tǒng)、蒸發(fā)系統(tǒng)、成膜控制系統(tǒng)等組件構(gòu)成。

真空鍍膜設(shè)備選購要點分析如下：

根據(jù)工藝要求選擇不同規(guī)格及類型的鍍膜設(shè)備，其類型有電阻蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、磁控濺射、磁控反應(yīng)濺射、離子鍍、多弧離子鍍等。

真空系統(tǒng)由機械泵、擴散泵、油增壓泵、增擴泵、羅茨泵、堝輪分子泵等及與它們相匹配的各種氣動、手動、電動閥門、管道等組成。

真空鍍膜設(shè)備是制作真空條件應(yīng)用較為廣泛的一種設(shè)備。

真空鍍膜主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜。真空鍍膜設(shè)備若有灰塵，將會影響真空鍍膜的效果和質(zhì)量。首先，被鍍膜材料表面肯定是有灰塵的，在盡量減小材料表面灰塵的前提下。

真空鍍膜機薄膜監(jiān)控目前應(yīng)用方式比較多，主要有：目視監(jiān)控法，定值監(jiān)控、水晶振蕩監(jiān)控、時間監(jiān)控等等。