鍍膜技術(shù)在信息存儲領(lǐng)域中的應(yīng)用 薄膜材料作為信息記錄于存儲介質(zhì)，有其得天獨厚的優(yōu)勢：由于薄膜很薄可以忽略渦流損耗；磁化反轉(zhuǎn)極為迅速；與膜面平行的雙穩(wěn)態(tài)狀態(tài)容易保持等。車燈鍍膜機(jī) 為了更精密地記錄與存儲信息，必然要采用鍍膜技術(shù)。

鍍膜技術(shù)在傳感器方面的應(yīng)用 在傳感器中，多采用那些電氣性質(zhì)相對于物理量、化學(xué)量及其變化來說，極為敏感的半導(dǎo)體材料。

蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程(散點-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長)形成薄膜。 對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，終形成薄膜。鍍膜技術(shù)在太陽能利用方面的應(yīng)用當(dāng)需要有效地利用太陽熱能時，就要考慮采用對太陽光線吸收較多、而對熱輻射等所引起的損耗較小的吸收面。

主要分類有兩個大種類: 蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等 。

真空鍍膜設(shè)備是制作真空條件應(yīng)用較為廣泛的一種設(shè)備。

根據(jù)加工產(chǎn)品要求的各異，真空腔大小不同，腔體由不銹鋼材料制作，要求不生銹、堅實等，真空腔各部分有連接閥，用來連接各抽氣泵浦。

蒸發(fā)系統(tǒng)主要是指成膜裝置部分，鍍膜機(jī)器的成膜裝置很多，有電阻加熱、電子槍蒸發(fā)、磁控濺射、射頻濺射、離子鍍等多種方式。

一臺完整的真空鍍膜機(jī)是由多部分系統(tǒng)組成的，每個系統(tǒng)可以完成不同的功能。

真空鍍膜設(shè)備，主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，分子束外延，激光濺射沉積等很多種。電子納米鍍膜設(shè)備

真空鍍膜機(jī)涂層材料與被加工材料之間的摩擦系數(shù)較小，所以真空鍍膜機(jī)涂層刀具的切削力小于未涂層刀具。電子納米鍍膜設(shè)備

真空鍍膜機(jī)表面涂層材料具有很高的耐磨性和硬度，且耐高溫。和未涂層的刀具比，涂層刀具允許采用較高的切削速度，提高了切削加工效率，也提高了在相同的切削速度下刀具的壽命。電子納米鍍膜設(shè)備