曝光

曝光是指將涂有感光層的PS版置于曬版機工作臺上，放好底片，通過曝光 獲得一種潛在或可見圖像的過程。曬版的工藝流程為：制備感光版-裝版-曝光-顯影-檢查-修正-烤版-提墨-擦膠檢查修正：將曝光、顯影后的PS版存在的質(zhì)量問題加以修正。曝光是一切光化學(xué)成像方法的基本過程與主要特征。曝光，曝光模式即計算機采用自然光源的模式，通常分為多種，手動曝光、AE鎖等模式。照片的好壞與曝光有關(guān)，也就是說應(yīng)該通多少的光線使CCD能夠得到清晰的圖像。曝光量由通光時間（快門速度決定），通光面積（光圈大?。Q定。

DI直接成像曝光機

1、產(chǎn)品特點：

初始投入少：購機成本較低，節(jié)省傳統(tǒng)菲林和曝光機成本，縮短生產(chǎn)時間，特別適用于周期要求短的樣板制作。

使用維護成本低：光源壽命長達3 年，廠家提供兩年免費保修，可保證極低的使用和維護成本。

待機時不消耗光源：采用“瞬間”曝光模式，無曝光時光源處于關(guān)閉狀態(tài)，不消耗電能，同時提高光源使用壽命，

內(nèi)置板面清潔系統(tǒng)：內(nèi)置噴氣式空氣清潔系統(tǒng)可清潔板面曝光區(qū)域，降低對整體環(huán)境的要求；特有的DI 多次曝光系統(tǒng)可有效的防止空氣中塵埃粒子阻擋光束產(chǎn)生陰影而導(dǎo)致圖形品質(zhì)的降低。

自動平行曝光機和ldi曝光機有什么區(qū)別？

主要特點：這個類型的設(shè)備只有一個燈管，曝光臺面也是分有上下方兩個鏡子，使用的是光線折射的原理。高靈活性：對位影像系統(tǒng)可使用單一設(shè)定對同一批板子和根據(jù)每一張板子的標(biāo)靶進行單獨漲縮曝光。當(dāng)兩個面同時進行曝光的時候，上下燈的曝光是分開的。先進行曝光，一面鏡子將光線反射到臺面的上方鏡子，然后再折射到曝光臺面上。下燈曝光時，光線是直接直射到下方的鏡子里然后在折射到臺面上，因此說使用品行曝光機進行曝光的時候，上燈的能量會比下燈的能量要更大一些，曝光及級數(shù)才會一樣。