PVD是物理氣相沉積技術(shù)的簡稱，是指在真空條件下，采用物理的方法將材料（俗稱靶材或膜料）氣化成氣態(tài)分子、原子或離子，并將其沉積在工件形成具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)，常見的PVD沉積技術(shù)有：蒸發(fā)技術(shù)、濺射技術(shù)、電弧技術(shù)。

離子鍍膜技術(shù)是PVD技術(shù)的一種，是指在PVD沉積過程中，被鍍材料形成金屬或者非金屬等離子體（如Ti離子，N離子），等離子體在偏壓電場的作用下，沉積在工件表面上。由于離子鍍過程中，離子的能量更強，離子繞射性更好，膜層的結(jié)合力更好，膜層致密性也更好，膜層性能更好。

玻璃鍍膜設(shè)備是利用真空磁控濺射方式在浮法玻璃表面進行鍍膜的專業(yè)設(shè)備，鍍膜艙室真空度為1.0E-6mbar的高真空，生產(chǎn)線采用真空磁控濺射方式在玻璃表面進行鍍膜，保持高真空環(huán)境是玻璃鍍膜設(shè)備的基本條件。

玻璃鍍膜設(shè)備由真空腔室、鍍膜腔室、狹縫閥、工藝介質(zhì)平臺、狹縫閥、傳動系統(tǒng)、液壓設(shè)備、冷卻系統(tǒng)、放氣系統(tǒng)、壓縮空氣系統(tǒng)、冷卻水系統(tǒng)等組成，采用電氣程序全自動控制。

玻璃基片通過傳動輥道實現(xiàn)水平直線傳輸，依次經(jīng)過鎖室、緩沖室、過渡室進入工藝腔室，鍍膜工藝完成后，經(jīng)過渡室、緩沖室、鎖室傳出。傳動輥道間通過同步齒形皮帶聯(lián)動，傳動輥道由減速機通過施密特聯(lián)軸器、剛性聯(lián)軸器等與輥道相連。真空系統(tǒng)主要通過各種真空泵來實現(xiàn)，在生產(chǎn)線各個關(guān)鍵位置均安裝各級真空規(guī)測量真空度。

塑膠鍍膜設(shè)備腔室維護完畢后，開始抽真空，抽真空的時間為36～48小時，期間在腔室真空達到一定程度時，進行真空測漏，真空測漏沒有問題并且腔室真空達到工藝條件后，就可以進行生產(chǎn)準備了。維護之前的破空（從真空狀態(tài)回到大氣狀態(tài)）需要 2 個小時，之后再對所有需要吊裝的陰極及泵艙吹水之后就可以進行艙室維護了。

塑膠鍍膜設(shè)備生產(chǎn)特點來看，腔室中所有設(shè)備部件的檢查、維修要集中在艙室維護期間進行，并且要保證這些裝置工作的可靠性，否則，如果在正常生產(chǎn)期間出現(xiàn)問題，僅僅腔室破空和抽氣就需要 40 多個小時，對生產(chǎn)的影響巨大。