根離子在鍍鉻電解液中有什么作用?

答:根離子在鍍鉻過程中起著與硫酸根離子相類似的作用，除此之外，它還具有某些方面的特點。例如鉻層容易鈍化，在鍍鉻過程中因電流中斷或進行二次鍍鉻(不另加其它措施)時，所獲得的鍍層為乳白而無光澤。但是在有根離子存在下，它具有使鉻層表面活化的作用，當電流中斷或二次鍍鉻時，仍能獲得光亮的鉻層。又如小零件滾鍍鉻，如果在一般標準鍍鉻液內進行，就難于獲得光亮的鉻層，滾鍍鉻液內通常含有根就是這個道理。

含有根離子的電解液

一般采用或來提供根離子。根離子另一特點是能在低溫(18～25℃)低電流密度(2～2.5A/d㎡)下獲得光亮的鉻層。當溫度達45℃時，可獲得光亮鉻層的電流效率為19～21%，而在標準鍍鉻液中則為13%。含有根離子的電解液，隨著溫度上升，其工作范圍比含有硫酸根離子的電解液為寬。溫度和電流密度的控制要求嚴格，兩者之間還要緊密配合。電流密度固定，溫度只能變動1～2℃，溫度固定，電流密度變動2～3A/d㎡。

合金鍍層的定義是什么?

合金鍍層的定義是什么?答:合金鍍層的定義是:任何一個含有兩種或兩種以上金屬共沉積形成的鍍層，不論它們存在于何種結構形式，只要它們的晶粒細致，憑我們的肉眼不能覺察出它們的區(qū)別，而且在其成分中低量金屬的量不低于1%，這種鍍層就可以稱為合金鍍層。有些單金屬電鍍中，使用少量的金屬光亮劑。例如化鍍銅中用少量鉛作發(fā)光劑，鉛也會在陰極中沉積出來。但是，我們習慣上不稱它為合金，因為它在鍍層中的含量遠遠少于1%。

常用的磷化處理工藝是利用化學元素發(fā)生反應

常用的磷化處理工藝是利用化學元素發(fā)生反應，在金屬表面形成一層膜，以起到防腐蝕以及打底的作用，而現代磷化工藝中主要有這些過程。金屬材料在儲運加工過程中都會接觸到各種油跡或汗跡，并且這些油跡還會與各種灰塵雜質摻和在一起，附著在金屬表面，不但會影響磷化的形成，還會降低磷化膜的附著力，耐腐蝕性能以及美觀，磷化質量會受到很大影響。