廣州晶創(chuàng)信息科技有限公司是一家國家高新技術(shù)，集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售為一體的現(xiàn)代型科技企業(yè)。主營產(chǎn)品：智能自助終端機(jī)、液晶廣告機(jī)、電子班牌、觸摸查詢機(jī)、會(huì)議一體機(jī)、拼接屏等顯示及互動(dòng)系列產(chǎn)品。可根據(jù)客戶需求定制產(chǎn)品。公司成立初期就組建了一個(gè)具有七年以上豐富的產(chǎn)品技術(shù)研發(fā)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)，研發(fā)實(shí)力雄厚，售后服務(wù)體系完善?，F(xiàn)如今公司產(chǎn)品銷往國內(nèi)外，廣泛應(yīng)用于商場，企業(yè)，教育培訓(xùn)單位，金融電信，酒店賓館等各行各領(lǐng)域。

液晶拼接屏技術(shù)特點(diǎn)

在過去的規(guī)劃項(xiàng)目中，液晶拼接屏幕通常用于40英寸、45英寸、50英寸、55英寸和60英寸大小。提供8毫米，5.5毫米，3.5毫米和1.8毫米（接縫）和其他規(guī)格。不過，用于60英寸液晶拼接屏幕的產(chǎn)品很少達(dá)到1.8mm，因此選擇60英寸超窄拼接屏幕會(huì)受到品牌選擇的限制。

液晶拼接屏的安裝方法有很多種，包括壁掛式、落地式、柜式設(shè)備、彎曲組件等，有兩種保護(hù)方式，一種是屏幕保護(hù)，另一種是前屏。保護(hù)。為了保護(hù)屏幕，拼接屏后面必須預(yù)留一定的設(shè)備空間，一般≥800mm；對(duì)于前屏保護(hù)方式，只需預(yù)留大于等于200mm的設(shè)備空間。由于其耗電量低，散熱量低，室內(nèi)日溫度可滿足散熱要求。

液晶拼接屏具有顏色恢復(fù)率高、價(jià)格低廉等優(yōu)點(diǎn)，在工程中得到了廣泛的應(yīng)用。然而，由于它的接縫，它適合顯示一些視頻圖像，但在顯示文本或數(shù)據(jù)時(shí)效果較差。雖然已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了1.8mm的接縫，但能夠通過大屏幕完成的產(chǎn)品是有限的，在招標(biāo)和采購方面會(huì)受到一定的限制。

液晶拼接屏具有分辨率高、厚度薄、重量輕、能耗低、壽命長、無輻射等優(yōu)點(diǎn)。隨著窄邊框液晶拼接屏的出現(xiàn)，液晶拼接屏的無縫拼接成為可能。濾是反色的光學(xué)濾光片。它可以地選擇它想要通過的小波段并反射其他不需要的波段。它是TFT-LCD面板的重要組成部分。另外，我們還需要通過紅（R）、綠（g）和藍(lán)（b）的濾色器提供顏色相位，以形成彩色顯示圖像。作為新型平板顯示器（TV）的核心部件，隨著用戶需求的不斷發(fā)展，液晶產(chǎn)品的規(guī)模越來越大，大屏幕的圖像也越來越清晰。大屏幕液晶拼接技術(shù)相繼提出，能夠在更大程度上滿足用戶的個(gè)性化需求。這項(xiàng)技術(shù)補(bǔ)充了這樣一個(gè)神話：由于面具的曲率，近貼曝光機(jī)無法與較大型號(hào)的相機(jī)競爭，而且濾色器制造商必須購買昂貴的掃描曝光機(jī)。這是拼接曝光技術(shù)的一個(gè)成功例子，它使用多個(gè)鏡頭拼接曝光來實(shí)現(xiàn)比MASK更的濾色器。解決了低成本接近式曝光機(jī)不能用MASK制作大濾的瓶頸，大大降低了設(shè)備購置成本。

使用比面板尺寸小的掩模，經(jīng)過反復(fù)縫合和曝光，就可以完成大面板。目前，許多TTF-LCD廠商選擇靠近曝光機(jī)，以降低設(shè)備成本。這樣的曝光器與MASK不匹配，只選擇小掩模。鏡頭曝光并不代表一個(gè)好的面板。需要選擇多次連續(xù)曝光來完成大于MASK比膠片的濾色，即拼接曝光過程。

設(shè)計(jì)原理

彩色濾光片的結(jié)構(gòu)包括玻璃基板、黑色基體、彩色層、ITO導(dǎo)電膜層和PS層。根據(jù)制造工藝順序，本方案先曝光BM黑色基體頂層，再曝光頂層和背面。當(dāng)標(biāo)記、紅色、綠色、藍(lán)色、PS和其他層暴露時(shí)，標(biāo)記中心用作參考。確保底層與BM黑色基體正確對(duì)齊，并避免在拼接過程中由于過度重疊而導(dǎo)致薄膜厚度不均勻。液晶的異常MARGn量表現(xiàn)出很好的差異，拼接錯(cuò)位導(dǎo)致BM的顏色層與黑色矩陣不一致，導(dǎo)致像素邊緣漏光等異常問題。BM、紅色、綠色、藍(lán)色和PS遮罩的曝光和切割區(qū)域均已規(guī)劃。每個(gè)光罩計(jì)劃分為三個(gè)不同的區(qū)域。利用一個(gè)掩模來設(shè)計(jì)三個(gè)掩模的使用，以克服在彩色薄膜制造過程中由于切割和曝光而造成的不均勻性。每個(gè)掩模拼接區(qū)域采用曲線拼接規(guī)劃技術(shù)。在2SHO的拼接區(qū)域，形成了標(biāo)記，鏡片之間的拼接精度非常高，能夠?qū)?，不?huì)形成錯(cuò)位或斷層。因此，增加了拼接標(biāo)記。曝光機(jī)提高了平滑的衍射效果，改善了均勻的照明場，了拼接問題。