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發(fā)布時(shí)間:2020-08-22 10:56  

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生物手套箱

基本技術(shù)指標(biāo):

1、溫度可調(diào):室溫 4~42℃

2、濕度可調(diào):35%~100%RH

3、內(nèi)腔氣體氛圍能滿足厭氧或低氧培養(yǎng)要求。

功能

1、機(jī)械強(qiáng)制對(duì)流內(nèi)腔體系,確保溫度、濕度、除氧、生物脫毒的持續(xù)穩(wěn)定

2、簡(jiǎn)單緊湊的傳輸艙設(shè)計(jì),確保樣品轉(zhuǎn)移輕松快速

3、內(nèi)腔正壓,確保外界空氣滲透干擾

4、材質(zhì),支持紫外線消毒與強(qiáng)氧化劑消毒

5、無(wú)真空充氮操作,簡(jiǎn)化操作流程,也免去真空泵維護(hù)成本

應(yīng)用領(lǐng)域

1、食品微生物檢驗(yàn)

2、綠色新型能源研究

3、污染控制與治理

4、食品生產(chǎn)工藝研究

5、生命科學(xué)

6、材料研究

7、鋰電子工藝生產(chǎn)線

安裝要求

1、氣:混合氣鋼瓶(和或氮?dú)怃撈浚?

2、電:220V±10%/110V±10%

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手套箱操作過(guò)程中的注意事項(xiàng)

1、手套箱系統(tǒng)工作中真空泵應(yīng)保持開(kāi)啟狀態(tài)。

2、當(dāng)箱內(nèi)氧氣濃度超出200PPM時(shí),應(yīng)通知設(shè)備維修人員進(jìn)行系統(tǒng)操作,否則會(huì)破壞水、氧凈化系統(tǒng)。

3、在手套箱啟動(dòng)循環(huán)前做檢查,是否在進(jìn)行箱體情況或再生。如以上提及的操作正在進(jìn)行,肯定禁止進(jìn)行循環(huán)。

4、兩個(gè)凈化柱不可以同時(shí)再生。

A、再生前先保證手套箱內(nèi)已被惰性氣體清洗干凈(H2O<200ppm)保證足夠的再生氣體供應(yīng)。再生氣體壓力為0.06-0.08mpa。

B、手套箱啟動(dòng)再生之前,請(qǐng)先確認(rèn)相應(yīng)的凈化柱循環(huán)已關(guān)閉。

C、手套箱再生過(guò)程需要24小時(shí),一旦執(zhí)行不能被斷開(kāi),再生開(kāi)始后3-6小時(shí)通再生氣體注意再生氣的用量,適當(dāng)調(diào)整再生氣體的壓力,保證再生氣在這3小時(shí)的充足供應(yīng),第6小時(shí)后可以關(guān)閉再生來(lái)源。

D、手套箱再生進(jìn)程中真空泵不可以關(guān)閉,不要觸摸凈化柱的頂部,以防燙壞。

E、再生一旦意外終止,請(qǐng)保證12小時(shí)內(nèi)不能重新啟動(dòng)該凈化柱的再生和循環(huán)否則將損壞設(shè)備。

5、手套箱作業(yè)中應(yīng)注意保護(hù)作業(yè)手套不要被損壞。


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艾明坷手套箱優(yōu)點(diǎn)

1.密閉循環(huán)

手套箱內(nèi)的惰性氣體經(jīng)循環(huán)風(fēng)機(jī)和凈化器密閉循環(huán),不斷地除水除氧

2.自動(dòng)控制再生

除水除氧材料可以再生,再生過(guò)程由程序控制

3.自動(dòng)清洗

手套箱內(nèi)的氣氛置換通過(guò)自動(dòng)控制的清洗閥門完成

4.箱體壓力控制

手套箱內(nèi)壓力通過(guò)PLC自動(dòng)控制, 工作壓力 /- 10mbar內(nèi)可以自由設(shè)定,超出 /- 12mbar系統(tǒng)自動(dòng)保護(hù)

5.真空泵自動(dòng)控制

真空泵要求在系統(tǒng)需要時(shí)自動(dòng)開(kāi)啟









真空熱蒸發(fā)鍍膜工藝

OLED器 件需要在高真空腔室中蒸鍍多層有機(jī)薄膜和金屬電極,薄膜的質(zhì)量關(guān)系到器件質(zhì)量和壽命。在有機(jī)真空腔室中設(shè)有多個(gè)放置有機(jī)材料的蒸發(fā)舟,加熱蒸發(fā)舟蒸鍍有機(jī) 材料;在金屬真空腔室中設(shè)有多個(gè)放置金屬電極的蒸發(fā)舟,金屬蒸發(fā)舟常采用鉬、鉭和鎢等材料制作,電極材料有Mg/Ag、Mg:Ag/Ag、Li/Al、 LiF /Al等,通常是使用低功函數(shù)的活潑金屬。在手套箱系統(tǒng)較長(zhǎng)時(shí)間處于水氧含量較高或停機(jī)不使用時(shí)需要將傳感儀從設(shè)備上取出并用專用的密封裝置密封傳感儀的探頭,以防止傳感儀失效。ITO玻璃基板放置在可加熱的旋轉(zhuǎn)樣品托架上,其下面放置的金屬掩膜板控制蒸鍍圖案,并利用石英晶體振蕩器來(lái)控 制膜厚。

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