在一個操作間，機器以及機器周圍走動的人員，會對氣流形成障礙。障礙物可以使單向流變成紊流，從而在障礙物周圍形成氣流團。人員的活動也可以使單向流變成紊流。在這些紊流中，由于風速較低，空氣稀釋程度較小，從而使得污染濃度較高。因此，必須將風速保持在0.3米/秒至0.5米/秒（60英尺/分鐘至100英尺/分鐘）的范圍里，以便使中斷的單向流能快速恢復，充分稀釋障礙物周圍紊流區(qū)的污染。用風速可以正確地表示出單向流，因為風速越高室內(nèi)就越潔凈。而每小時換氣次數(shù)與房間的體積有關(guān)，如吊頂?shù)母叩停虼瞬贿m合用來表示單向流。

    對于大部分潔凈空間，為了防止外界污染侵入，需要保持內(nèi)部的壓力（靜壓）高于外部的壓力（靜壓）。壓力差的維持一般應符合以下原則：

    1．潔凈空間的壓力要高于非潔凈空間的壓力。

    2.潔凈度級別高的空間的壓力要高于相鄰的潔凈度級別低的空間的壓力。

    壓力差的維持依靠新風量，這個新風量要能補償在這一壓力差下從縫隙漏泄掉的風量。所以壓力差的物理意義就是漏泄（或滲透）風量通過潔凈室的各種縫隙時的阻力。

    光學微電子凈化工程亦名無塵室或清凈室，已是半導體、精密制造、液晶制造、光學制造、線路板制造和生物化學、、食品制造等行業(yè)不可或缺的重要設(shè)施。近幾年來，由于技術(shù)之發(fā)展，對于產(chǎn)品的高精密度化、細小型化之需求更為迫切，如超大型積體電路之研究制造，已成為世界各國在科技發(fā)展上極為重視的項目，而我公司的設(shè)計理念及施工技術(shù)在行業(yè)中則處于地位。

    在進行潔凈室凈化工程的平面布局時有必要契合國家的現(xiàn)行標準中有關(guān)安全出產(chǎn)、消防、環(huán)保和工作衛(wèi)生方面的各種要求；在進行潔凈室凈化工程平面布局時應充分考慮、物流的安排．極力做到短捷、流暢。在空間規(guī)劃時應分考慮產(chǎn)品出產(chǎn)過程和潔凈室凈化工程裝飾內(nèi)各種管線、物流運送的合理安排。在確定潔凈廠房的平面、空間安置后，對潔凈室凈化工程規(guī)劃涉及的各個專業(yè)提出規(guī)劃內(nèi)容、技能要求及規(guī)劃中應留意的相關(guān)問題。