相對(duì)濕度越高,粘附的難去掉，但當(dāng)相對(duì)濕度低于30%時(shí)，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對(duì)于硅片生產(chǎn)溫度范圍為35—45%。1000級(jí) 一般只對(duì)塵埃濃度做要求，用于光學(xué)器件，儀器等高精儀器等10000級(jí)，用于液壓設(shè)備的生產(chǎn)，和一些食品飲料的生產(chǎn)。100000級(jí)，這個(gè)級(jí)別比較的低，對(duì)凈化度要求不是很高，主要在印刷廠(chǎng)，包裝廠(chǎng)等。潔凈室中的溫濕度控制。潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來(lái)確定，但在滿(mǎn)足工藝要求的條件下，應(yīng)考慮到 人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對(duì)溫濕度的要求也越來(lái)越嚴(yán)的趨勢(shì)。

凈化工程的等級(jí)劃分比較的嚴(yán)格，一般按照7個(gè)等級(jí)進(jìn)行的劃分，分別是1級(jí)，10級(jí)，100級(jí)，1000級(jí)，10000級(jí)，100000，1000000級(jí)，凈化安全要求是根據(jù)等級(jí)來(lái)實(shí)施的，凈化工程等級(jí)數(shù)越小，級(jí)別是越高的，其含塵量越少，排名是靠前的。相對(duì)濕度越高,粘附的難去掉，但當(dāng)相對(duì)濕度低于30%時(shí)，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對(duì)于硅片生產(chǎn)溫度范圍為35—45%。凈化工程在設(shè)計(jì)時(shí)，無(wú)論是新建還是重新改造的凈化車(chē)間，都一定依照國(guó)家相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)、規(guī)范進(jìn)行。

排風(fēng)系統(tǒng)有一般排風(fēng)系統(tǒng)、有機(jī)氣體排風(fēng)系統(tǒng)、酸性氣體排風(fēng)系統(tǒng)、堿性氣體排風(fēng)系統(tǒng)等，凈化車(chē)間設(shè)計(jì)時(shí)，要根據(jù)實(shí)際情況選擇。地面可采用環(huán)氧自流坪地坪或耐磨塑料地板，有防靜電要求的，要選用防靜電型。送回風(fēng)管道一般用鍍鋅鋼板，不宜選用玻璃棉類(lèi)材料保溫。照明應(yīng)選用凈化車(chē)間燈具。1級(jí)：主要應(yīng)用于電子工業(yè)，這是目前對(duì)凈化工程要求高的環(huán)境，集成電路要求的精度要達(dá)到亞微米。隨著微電子工業(yè)技術(shù)領(lǐng)域的突飛猛進(jìn)，對(duì)潔凈室的要求越來(lái)越高。及時(shí)生產(chǎn)間內(nèi)的例子直徑僅有1微米，也會(huì)使產(chǎn)品壽命受到影響。

10級(jí)：主要用于帶寬小于2微米的半導(dǎo)體工業(yè)。其空氣凈化要求僅次于1級(jí)，并且我國(guó)半導(dǎo)體技術(shù)也在發(fā)展之中，在未來(lái)對(duì)潔凈度的要求更加高。一般潔凈室高度控制在2.60米，對(duì)個(gè)別較高的設(shè)備可在局部加高，而不宜提高潔凈區(qū)的高度。凈化工程在設(shè)計(jì)時(shí)，無(wú)論是新建還是重新改造的凈化車(chē)間，都一定依照國(guó)家相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)、規(guī)范進(jìn)行。