手機表面處理用研磨機研磨拋光的優(yōu)勢

手機表面處理用研磨機研磨拋光的優(yōu)勢 隨著網(wǎng)絡(luò)時代的便捷化，幾乎每個人都擁有一部手機，如今我們的生活對手機的依耐性越來越大，出門靠一部手機就可以購物、旅游。手機更新?lián)Q代的頻率也非?？?，手機用戶對手機的外觀追求也越來越高，像華為、蘋果等手機品牌對手機表面的外觀設(shè)計愈加注重。說到手機表面就需要研磨機的處理拋光，下面我們就來看看研磨機在手機表面處理上有哪些優(yōu)勢？ 優(yōu)勢一：研磨機的操作十分簡單，不需要像傳統(tǒng)行業(yè)耗費大量人力，提高工作效率，降低了手機生產(chǎn)商的生產(chǎn)成本。 優(yōu)勢二：研磨機可以研磨加工各種高耐磨的手機材料，研磨性能十分廣泛。 優(yōu)勢三：研磨機在研磨工作十分嚴密，可以在研磨手機配件材料時準確的研磨拋光，減少手機材料的損耗。 優(yōu)勢四：由于研磨機設(shè)備的設(shè)計的合理性，工作人員只要正確的操作研磨機，不用擔(dān)心在進行手機表面處理過程中出現(xiàn)安全故障。

平面研磨機研磨加工的步驟流程介紹

平面研磨機研磨加工的步驟流程介紹 研磨利用涂敷或壓嵌在研具上的磨料顆粒，通過研具與工件在一定壓力下的相對運動對加工表面進行的精整加工（如切削加工）。研磨可用于加工各種金屬和非金屬材料，加工的表面形狀有平面，內(nèi)、外圓柱面和圓錐面，凸、凹球面，螺紋，齒面及其他型面。加工精度可達IT5～IT01，表面粗糙度可達Ra0.63～0.01微米。平面研磨機廣泛用于LED藍寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、模具、導(dǎo)光板、光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光。下面是關(guān)于平面研磨機加工的具體流程。 1、利用涂敷或壓嵌在研具上的磨料顆粒，通過研具與工件在一定壓力下的相對運動對加工表面進行的精整加工、研磨可用于加工各種金屬和非金屬材料，加工的表面形狀有平面，內(nèi)、外圓柱面和圓錐面，凸、凹球面，螺紋，齒面及其它型面。加工精度可達IT5～01，表面粗糙度可達R0.63～0.01微米。 2、平面研磨機研磨方法一般可分為濕研、干研和半干研3類。①濕研：又稱敷砂研磨，把液態(tài)研磨劑連續(xù)加注或涂敷在研磨表面，磨料在工件與研具間不斷滑動和滾動，形成切削運動。②濕研一般用于粗研磨，所用微粉磨料粒度粗于W7。③干研：又稱嵌砂研磨，把磨料均勻在壓嵌在研具表面層中,研磨時只須在研具表面涂以少量的硬脂酸混合脂等輔助材料。 4、正確處理平面研磨機進行研磨的運動軌跡是提高研磨質(zhì)量的重要條件。在平面研磨中，一般要求：①工件相對研具的運動，要盡量保證工件上各點的研磨行程長度相近；②工件運動軌跡均勻地遍及整個研具表面，以利于研具均勻磨損；③運動軌跡的曲率變化要小，以保證工件運動平穩(wěn)；④工件上任一點的運動軌跡盡量避免過早出現(xiàn)周期性重復(fù)。為了減少切削熱，研磨一般在低壓低速條件下進行。粗研的壓力不超過0.3兆帕，精研壓力一般采用0.03～0.05兆帕。粗研速度一般為20～120米/分，精研速度一般取10～30米/分。

平面研磨機研磨盤的目數(shù)代表的含義介紹

關(guān)于平面研磨機研磨盤的目數(shù)代表的含義介紹 隨著平面研磨機使用范圍越來越廣泛，但許多剛剛接觸這行業(yè)的人并不了解什么是研磨盤的目數(shù)代表的是什么意思。下面就來簡單介紹一下！ 在單位面積內(nèi)，研磨顆粒的顆粒數(shù)，指的是研磨盤內(nèi)顆粒的大小。比如說80目、200目、300目、600目等等。目數(shù)值越大，代表的是顆粒細微程度越小，研磨出的越細膩，從而讓產(chǎn)品表面粗糙度更細膩，達到平面效果，按產(chǎn)品種類再使用拋光皮或者拋光布進行拋光，便能呈現(xiàn)出精密的鏡面效果。 這時候，很多人就會有疑問，那都用高目數(shù)的就好了。低目數(shù)沒什么作用了嗎。其實并不然，因為平面研磨機治具上放上許多產(chǎn)品，然而有的產(chǎn)品與產(chǎn)品的厚度相差幾個絲，這時便能用目數(shù)較大的研磨盤進行開粗，使得平面研磨機的研磨時間縮短，增加效益。

淺析硅片拋光機的兩種拋光方式

淺析硅片拋光機的兩種拋光方式 硅片拋光機如何解決這個矛盾的的辦法就是把拋光分為兩個階段進行。粗拋目的是去除磨光損傷層，這一階段應(yīng)具有拋光速率，粗拋形成的表層損傷是次要的考慮，不過也應(yīng)當(dāng)盡可能?。黄浯问蔷珤?或稱終拋)，其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷，使拋光損傷減到。 硅片拋光機不是碾除整體的糠層，是通過碾除細微的糠粉和粗糙表上面突起的淀粉細粒，拋光機拋光和碾白從工作方面比較存在著很大的差別，拋光機拋光壓力很低，拋光機拋光米粒的時候流體密度很小，拋光時米粒離開鐵輥的速度很快，而且拋光機單位產(chǎn)量拋光運動面積很大。