等離子就是在高溫高壓下,拋光鹽水溶,在高溫高壓下,電子會脫離原子核而跑出來,原子 核就形成了一個帶正電的離子,當(dāng)這些離子達到一定數(shù)量的時候可以成為等離子態(tài),等離子態(tài)能量很大,當(dāng)這些等離子和要拋光的物體摩擦?xí)r,頃刻間會使物體達到表面光亮的效果。對工件的任何一個面都能拋光。

等離子拋光加工廠家

提高生產(chǎn)效率。半自動、全自動環(huán)保等離子納米拋光設(shè)備通過藥劑可在十幾秒到兩分鐘內(nèi)達到電鍍鏡面效果，大大提高了生產(chǎn)效率。

半自動、全自動環(huán)保等離子電漿拋光設(shè)備采用自動化控制,操作簡單,維護方便,減少作業(yè)人員、降低人工成本。同時也可為客戶節(jié)省因人工拋光、電解拋光、化學(xué)拋光等傳統(tǒng)拋光方法而造成的許多材料消耗。

等離子拋光又稱為“納米拋光”，是目前行業(yè)廣為應(yīng)用的拋光工藝。采用液態(tài)電打磨原理，在特定的浴液中將工件置于陽極。在適溫環(huán)境下，溶液中產(chǎn)生能量巨大的等離子態(tài)，當(dāng)?shù)入x子與工件摩擦?xí)r，頃刻間會使物體達到表面光亮的效果，實現(xiàn)納米級的材料去除。

隨著環(huán)保意識日漸加強，傳統(tǒng)拋光工藝已難以滿足行業(yè)對、綠色環(huán)保、低成本生產(chǎn)的要求。倍亮拋光等離子系列為行業(yè)提供了一個、環(huán)保的表面優(yōu)化解決方案。

等離子拋光技術(shù)中利用穩(wěn)定、自由的等離子，可到達手工/機械研磨所到不了的遮蔽位，進行、無死角、高精度打磨，表面粗糙度Ra＜0.09μm。

傳統(tǒng)機械研磨由于利用離心力帶動顆粒打磨，工件不可抵抗地受到強大外力撞擊，往往導(dǎo)致出現(xiàn)變形的情況。加之因研磨顆粒較大難以到達工件遮蔽位，令很多細節(jié)得不到打磨。