光學(xué)石英玻璃

光學(xué)石英玻璃采用光刻和離子交換工藝產(chǎn)生低損耗非線性光波導(dǎo), 可制備小尺寸密集型超快全光速調(diào)制集成光路波導(dǎo)器件,為以超大規(guī)模數(shù)據(jù)傳輸與處理為基礎(chǔ)的信息高速公路通訊網(wǎng)絡(luò)信息的快速處理和容量的提高提供實(shí)用性元件。非線性光學(xué)材料和器件已成為光子學(xué)微結(jié)構(gòu)和新型。玻璃的密度光學(xué)玻璃的密度是使用者及制造者所必須了解的基本物理性貭之一。我們可以輕松切換玻璃透明度或透明度，所有這些都可以由您的智能手機(jī)控制。此外，在計(jì)算玻璃的分子體積及分子折射度時(shí)也需要密度的數(shù)據(jù)。

生產(chǎn)光學(xué)玻璃原料的流程是什么

1、熔煉

有單坩堝間歇熔煉法和池窯(見(jiàn)窯)連續(xù)熔煉法。單坩堝熔煉法又可分為粘土坩堝熔煉法和鉑坩堝熔煉法。不論采用何種熔煉方式均需用攪拌器攪拌，并嚴(yán)格控制溫度和攪拌，使光學(xué)玻璃玻璃液達(dá)到高度均勻。

2、成型

光學(xué)玻璃的成型法有古典破堝法、滾壓法和澆注法，但目前越來(lái)越廣泛地采用漏料成型（用單坩堝或連熔流出料液），能直接拉棒或滴料壓型或漏料成型大尺寸的毛坯，提高料滴利用率和成品率。

3、退火

為了l大限度地消除玻璃的內(nèi)應(yīng)力，提高光學(xué)均勻性，必須制定嚴(yán)格的退火制度，進(jìn)行精密退火。

4、檢驗(yàn)

測(cè)定的指標(biāo)有：光學(xué)常數(shù)、光學(xué)均勻度、應(yīng)力雙折射、條紋、氣泡等。

光學(xué)玻璃的精密拋光的化學(xué)穩(wěn)定性

光學(xué)玻璃元件在制造和使用過(guò)程中，其拋光表面抵抗各種侵蝕性介質(zhì)作用的能力稱(chēng)為光學(xué)玻璃的化學(xué)穩(wěn)定性。

1 抗潮濕大氣作用穩(wěn)定性RC（S）(表面法)

根據(jù)對(duì)潮濕大氣作用的穩(wěn)定性，分為三級(jí)：

1級(jí)—在溫度50℃，相對(duì)濕度80％的條件下，光學(xué)玻璃拋光表面形成水解斑點(diǎn)的時(shí)間超過(guò) 20h；

2級(jí)—在相同試驗(yàn)條件下，形成水解斑點(diǎn)的時(shí)間在5h～20h之間； 3級(jí)--在相同試驗(yàn)條件下，形成水解斑點(diǎn)的時(shí)間不到5h。

光學(xué)玻璃

2抗酸作用穩(wěn)定性RA（S）(表面法)

根據(jù)對(duì)酸溶液作用的穩(wěn)定性，分為三級(jí)：

1級(jí)—在0.1N、溫度50℃醋l酸溶液作用下，光學(xué)玻璃拋光表面的破壞深度達(dá)135nm的時(shí)間 超過(guò)5h；

2級(jí)—在相同試驗(yàn)條件下，破壞深度達(dá)135nm的時(shí)間在1h～5h； 3級(jí)--在相同試驗(yàn)條件下，破壞深度達(dá)135nm的時(shí)間不到1h。