PVD的意思是“物理氣相沉積”，這是指一種薄膜制備技術(shù)，該技術(shù)使用物理方法在真空條件下將材料沉積在要電鍍的工件上。PVD涂層技術(shù)主要分為三類，真空蒸發(fā)涂層，真空濺射和真空離子涂層。對應(yīng)于三類PVD技術(shù)，相應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備還具有三種類型：真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)，真空濺射鍍膜機(jī)和真空離子鍍膜機(jī)。在過去的十年中，真空離子鍍技術(shù)發(fā)展迅速，并且已成為當(dāng)今zui先進(jìn)的表面處理方法之一。我們通常所說的PVD涂層是指真空離子涂層，PVD鍍膜機(jī)通常是指真空離子鍍膜機(jī)。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

一、鍍膜室極限壓力的測定1、試驗(yàn)條件：（1）鍍膜室內(nèi)沒有安放基材（空載狀態(tài)）；（2）用來測量的真空計應(yīng)和設(shè)備本身是配套的，且為有效期之內(nèi)；（3）在抽氣過程中，對鍍膜室用設(shè)備配套的加熱轟擊裝置進(jìn)行除氣；（4）真空測量規(guī)管應(yīng)裝于鍍膜室壁上或zui靠近鍍膜室的管道上；（5）對具有中擱板、上卷繞室和鍍膜室的卷繞鍍膜設(shè)備，應(yīng)在兩室同時抽氣時對鍍膜室的壓力進(jìn)行測試。2、測試方法：連續(xù)對鍍膜室抽氣24h這一時間段之間，測定出過程中的壓力zui低值，則定為該設(shè)備的極限壓力。如果壓力變化值在0.5h內(nèi)沒有超過5％的波動，則取zui高測量表讀數(shù)值作為極限壓力值。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

蒸發(fā)鍍膜過程中，從膜材表面蒸發(fā)的粒子以一定的速度在空間沿直線運(yùn)動，直到與其他粒子碰撞為止。在真空室內(nèi)，當(dāng)氣相中的粒子濃度和殘余氣體的壓力足夠低時，這些粒子從蒸發(fā)源到基片之間可以保持直線飛行，否則，就會產(chǎn)生碰撞而改變運(yùn)動方向。為此，增加殘余氣體的平均自由程，以減少其與蒸發(fā)粒子的碰撞幾率，把真空室內(nèi)抽成高真空是必要的。當(dāng)真空容器內(nèi)蒸發(fā)粒子的平均自由程大于蒸發(fā)源與基片的距離(以下稱蒸距)時，就會獲得充分的真空條件。設(shè)蒸距(蒸發(fā)源與基片的距離)為L，并把L看成是蒸發(fā)粒子已知的實(shí)際行程，λ為氣體分子的平均自由程，設(shè)從蒸發(fā)源蒸發(fā)出來的蒸汽分子數(shù)為N0，在相距為L的蒸發(fā)源與基片之間發(fā)生碰撞而散射的蒸汽分子數(shù)為N1，而且假設(shè)蒸發(fā)粒子主要與殘余氣體的原子或分子碰撞而散射，則有N1/N0=1-exp(L/λ)(1) 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制