真空鍍膜一種通過物理方法生產(chǎn)薄膜材料的技術。真空室中材料的原子與熱源隔離，并撞擊要鍍覆的物體表面。這項技術*首先用于生產(chǎn)光學透鏡，例如船用望遠鏡透鏡。后來擴展到其他功能膜，例如記錄鋁電鍍，裝飾涂層和材料表面改性。例如，表殼鍍有仿金，然后對機床進行了涂層處理以改變加工硬度。真空鍍膜主要使用輝光放電在目標表面擊中ya（Ar）離zi。靶的原子被噴射并沉積在基板表面上以形成薄膜。濺射膜的性質和均勻性優(yōu)于蒸發(fā)膜，但是涂布速度比蒸發(fā)膜慢得多。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

與CVD工藝相比，PVD工藝處理溫度低，在600℃以下時對刀具材料的抗彎強度無影響；薄膜內(nèi)部應力狀態(tài)為壓應力，更適于對硬質合金精密復雜刀具的涂層；PVD工藝對環(huán)境無不利影響，符合現(xiàn)代綠色制造的發(fā)展方向。當前PVD涂層技術已普遍應用于硬質合金立銑刀、鉆頭、階梯鉆、油孔鉆、鉸刀、絲錐、可轉位銑刀片、車刀片、異形刀具、焊接刀具等的涂層處理。PVD技術不僅提高了薄膜與刀具基體材料的結合強度，真空PVD鍍膜技術在壓鑄模具中的運用真空PVD鍍膜涂層表面摩擦系數(shù)小，經(jīng)過表面拋光的金屬材料的表面對鋼摩擦系數(shù)一般在0.9左右， 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

薄膜的成膜過程，是一個物質形態(tài)的轉變過程，不可避免地在成膜后的膜層中會有應力存在，對于多層膜來說有不同膜料的組合，各膜層體現(xiàn)出的應力是有所不同的，有的是張應力、有的是壓應力，還有膜層及基片的熱應力。

應力的存在對膜強度是有害的，輕者是膜層耐不住摩擦，重者，造成膜層的龜裂或網(wǎng)狀細道子。

對于減反膜，由于層數(shù)不多，應力一般體現(xiàn)不明顯，（但有些硝材的鏡片即便是減反膜也有應力問題存在。）而層數(shù)較多的高反膜、濾光膜，應力是一個常見的不良因素，應特別注意。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制