高純/特種氣體的概念

半導(dǎo)體集成電路制造所需要的高純氣體主要分為兩大類(lèi)：

1.普通氣體：也叫大宗氣體，主要有：H2 、N2 、O2 、Ar 、He等。

2.特種氣體：主要指各種摻雜用氣體、外延用氣體、離子注入用氣體、刻蝕用氣體等。

半導(dǎo)體制造用氣體按照使用時(shí)的危險(xiǎn)性分類(lèi)：

1.可燃、助燃、易然易暴氣體：H2 、CH4、H2S、NH3 、SiH4、PH3 、B2H6、SiH2CL3、CLF3、SiHCL3等

2.有毒氣體：AsH3、PH3 、B2H6等

3.助燃?xì)怏w：O2 、N2O、F2 、HF等

4.窒息性氣體：N2 、He 、CO2、Ar等

5.腐蝕性氣體：HCL 、PCL3 、POCL3 、HF、SiF4、CLF3等

同一場(chǎng)所多種易然易暴氣體存在如何檢測(cè)？

在銷(xiāo)售過(guò)程中經(jīng)常會(huì)遇到客戶問(wèn)：我的場(chǎng)所存在多種可燃氣體，是不是我每一種氣體安裝一臺(tái)類(lèi)型的探測(cè)器？還是安裝幾臺(tái)等等問(wèn)題，今強(qiáng)源氣體小編就給大家聊聊這個(gè)問(wèn)題。

如果現(xiàn)場(chǎng)都是易然易暴氣體，那么每一種都設(shè)置一臺(tái)報(bào)警器也不現(xiàn)實(shí)，更重要的是可燃?xì)怏w用的是一種傳感器檢測(cè)，也就是催化燃燒類(lèi)型的，如果不同氣體都按照對(duì)應(yīng)來(lái)設(shè)置的話，現(xiàn)場(chǎng)會(huì)有非常大的干擾，比如甲烷，液化氣，丙烷，酯類(lèi)等等易然易暴氣體，現(xiàn)場(chǎng)安裝的話設(shè)置一種即可，怎么設(shè)置呢？我們要查看每一種氣體的爆i炸極限值，取氣體蕞低的那個(gè)爆i炸極限值來(lái)設(shè)置報(bào)警器，也就是說(shuō)我們只檢測(cè)那種氣體蕞容易與空氣結(jié)合發(fā)生爆i炸，我們就針對(duì)這樣的氣體來(lái)防護(hù)即可。那么其他的氣體爆i炸極限值稍微高一些，暫時(shí)都是安全的。

氬氣的提純技術(shù)

高純氣的分析檢測(cè)，需要標(biāo)準(zhǔn)氣體。根據(jù)GB/T10642高純氣國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)，高純氣分為3個(gè)等級(jí)，其控制成分要求較地低，通常大空分分餾出來(lái)的液態(tài)Ar質(zhì)量很好，但在配制標(biāo)氣時(shí)，由于氣瓶殘余氣體及系統(tǒng)的漏氣，導(dǎo)致此類(lèi)標(biāo)準(zhǔn)氣體配制難度較大，經(jīng)常出現(xiàn)其中的氮?dú)庵笜?biāo)超標(biāo)，為了配制一瓶合格的標(biāo)準(zhǔn)氣體時(shí)常重復(fù)多次。這樣一來(lái)不但配制氣體麻煩，而且也給分析增加許多的工作量，在實(shí)驗(yàn)室為配好此氣，曾反復(fù)3次之多。氣的凈化除采用精餾的方法外，對(duì)充瓶后的多采用終端提純的手段，國(guó)外如意大利賽斯等公司都有超純氣提純?cè)O(shè)備，經(jīng)過(guò)提純后氣的純度達(dá)到6N以上，吸氣劑可以同氣中的幾乎所有的雜質(zhì)反應(yīng)，反應(yīng)的程度取決于雜質(zhì)的種類(lèi)及反應(yīng)溫度，N2是比較難除的雜質(zhì)，其它如O2、CO2、H2O雜質(zhì)可通過(guò)其它的常規(guī)方法除凈，為了節(jié)省價(jià)格不菲的吸氣劑，在提純?cè)O(shè)備流程設(shè)計(jì)時(shí)，應(yīng)考慮氣體的初級(jí)凈化，由于吸氣劑的激化溫度高達(dá)500℃以上，又是在高壓下工作，所以所用設(shè)備的安全問(wèn)題，是必須要高度的重視，吸氣劑由于參加了化學(xué)反應(yīng)，在使用時(shí)不斷的消耗，其吸氣能力隨著床層的降低而不斷下降，當(dāng)發(fā)現(xiàn)Ar的純度下降，應(yīng)考慮是否需要更換吸氣劑。在Ar提純時(shí)可采用國(guó)產(chǎn)的吸氣劑，成本可降低較多。