碳氫清洗劑是餾程在140-190℃左右的正構(gòu)和異構(gòu)烷烴。一般是石油經(jīng)粗蒸餾、加氫、精餾、異構(gòu)化制成。碳氫清洗劑與其他清洗劑相比有許多優(yōu)勢

碳氫清洗機簡介

碳氫清洗機

設備的工作原理就是將碳氫在真空狀態(tài)下進行噴淋，與腔體內(nèi)工件淬火油冷后附著的油脂發(fā)生溶解反應，通過蒸汽浴洗、烘干等多個其他工序，終使工件表面光亮、盲孔狹縫無油污殘留。

碳氫真空自動清洗設備通常是在敞開式的超聲波清洗的基礎(chǔ)上設計改進而成，超聲波的能力是清洗能力的核心。在選用設備時應特別注意超聲波功率、頻率和震板布局（是底震還是側(cè)震等）。與傳統(tǒng)的水基清洗劑對比，碳氫密度較小，同等的超聲波強度，采用碳氫清洗要比水基清洗的強度要弱得多。因此使用碳氫清洗，必須考慮超聲波的清洗能力。如，我司的碳氫除蠟工藝，在普通的超聲波清洗下，除蠟的效率及效果都比不上脫氣的超聲波清洗。

工業(yè)清洗劑的應用領(lǐng)域分為：民用和工業(yè)用。民用的清洗劑就是我們生活中接觸到的洗潔精、洗衣液之類的。而工業(yè)清洗劑則是應用于工業(yè)生產(chǎn)中，主要分為三大類：水基清洗劑、半水基清洗劑、溶劑清洗劑；碳氫清洗劑就是溶劑清洗劑的一種，又分為功能型與非功能型。

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標題6演示（可不寫標題）

（清洗的附著物：助焊劑、油、石蠟、油漆磨料、染料、銹、氧化物、塵、手垢）印刷線路板除松香、焊斑、阻焊劑；電子元器件、液晶玻璃、電視機零部件、高壓觸點等機械電子零件、電容、半導體、晶振、電阻、IC芯片、接插件、連接件、轉(zhuǎn)接器、硅片、三極管、二極管、壓電陶瓷基片、顯象管、電真空器件的清洗清除灰塵、氧化層、拋光膏、、裝飾品、計器、表帶、表殼、表針、數(shù)字盤、油泥等。