電鍍是連續(xù)型生產(chǎn)過程，數(shù)字化是行業(yè)邁向現(xiàn)代化的必經(jīng)之路，大數(shù)據(jù)對電鍍過程控制的重要性不言而喻。

在電鍍生產(chǎn)中，物聯(lián)網(wǎng)應(yīng)用可以節(jié)約人力開支，提高管理效率，實時記錄包括電流密度、溫度、pH、攪拌、電鍍時間、電源波形等各個工藝的數(shù)據(jù)，替代崗位員工抄表、查崗等。通過物聯(lián)網(wǎng)技術(shù)，用戶可以獲取生產(chǎn)數(shù)據(jù)，進(jìn)而指導(dǎo)電鍍加工工藝由粗略控制轉(zhuǎn)變?yōu)榫珳?zhǔn)控制，并將電鍍生產(chǎn)設(shè)備、生產(chǎn)工藝、電鍍鍍液、生產(chǎn)過程的實時狀態(tài)以模擬動畫、流程圖的方式展現(xiàn)，同時通過實時畫面及時準(zhǔn)確地掌握現(xiàn)場生產(chǎn)狀態(tài)。進(jìn)而對生產(chǎn)工藝進(jìn)行調(diào)整，并優(yōu)化制造成本。

電鍍廢水處理方法及常見問題

1）電鍍層的漂洗水

鍍層的漂洗水屬于電鍍作業(yè)重金屬的污染來源，而電鍍液成分主要是絡(luò)合劑與金屬鹽。而為了改善鍍層的性質(zhì)，需要在鍍液中加入一些有機的化合物，可見，鍍件的漂洗廢水之中不僅包含重金屬的離子，還包含少量有機物。

通常漂洗廢水中重金屬的離子種類與排放量會因為鍍件電鍍操作的管理水平、鍍件物理現(xiàn)狀以及電鍍液配方而發(fā)生改變。

2）鍍層后的廢水處理

鍍層后的處理一般包含其他特殊表面的處理、漂洗后鈍化以及不良鍍層退鍍等。

在后處理的過程中容易出現(xiàn)大量重金屬的廢水，主要包含鈮、銅等重金屬，碳酸鈉、硫酸以及磷酸等酸堿的物質(zhì)，醋酸、甘油等有機物。

鋁合金電鍍化學(xué)鎳鍍液中各成分的作用所在

 氯離子是陽極活化劑。隨著電鍍的進(jìn)行，鍍液中的鎳離子會被消耗，這時就需要鎳陽極不斷溶解來補充消耗的鎳。為了使鎳陽極能正常溶解在鍍鎳溶液中需要加入陽極活化劑，常用的陽極活化劑為氯化鈉或，從成本上考慮以氯化鈉為，用量一般在7～20g/L，但鈉離子會降低陰極電流的上限值，同時過多的鈉離子對鍍層光亮度有影響，對于光亮鍍鎳采用作為活化劑，用量一般在30～50g/L。當(dāng)鍍液中氯離子含量低時陽極活化不良導(dǎo)致陽極鈍化而影響鍍層質(zhì)量；氯離子濃度過低，溶液導(dǎo)電能力下降，槽電壓升高，沉積速度變慢，影響鍍層光亮度，并可能導(dǎo)致鍍鎳后套鉻鍍層發(fā)花。當(dāng)氯離子含量過高時，加速陽極溶解，甚至使鎳的金屬微粒從陽極分離進(jìn)入鍍液并吸附在陰極上與鎳共沉積，出現(xiàn)鍍層粗糙和毛刺，氯離子含量過高也使鍍層內(nèi)應(yīng)力增大。

真空電鍍設(shè)備在光學(xué)儀器中的應(yīng)用：人們熟悉的光學(xué)儀器顯微鏡、照相機、測距儀，以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等，它們都離不開真空電鍍設(shè)備技術(shù)，鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。

真空電鍍設(shè)備在信息存儲領(lǐng)域中的應(yīng)用：薄膜材料作為信息記錄于存儲介質(zhì)，有其得天獨厚的優(yōu)勢，磁化反轉(zhuǎn)極為迅速，與膜面平行的雙穩(wěn)態(tài)狀態(tài)容易保持等。

七彩電鍍設(shè)備在集成電路制造中的應(yīng)用：晶體管路中的保護(hù)層、電極管線等多是采用CVD技術(shù)、PVCD技術(shù)、真空蒸發(fā)金屬技術(shù)、磁控濺射技術(shù)和射頻濺射技術(shù)。