眾所周知，鍍鈦是在高溫，真空鈦金爐內(nèi)，鈦、鋯金屬。磁控濺射的基本原理:磁控濺射是在濺射區(qū)加了與電場(chǎng)方向垂直的磁場(chǎng),處于正交電場(chǎng)區(qū)E和磁場(chǎng)B中的電子的運(yùn)動(dòng)方程,。借用惰性氣體的輝光放電使金屬或合金蒸氣離子化，離子經(jīng)電場(chǎng)加速而沉積帶負(fù)電荷的不銹鋼板上，從而形成色澤豐富艷麗的金屬膜。這么做不僅僅是為了增加產(chǎn)品的美觀程度，也可以很大程度上提升其使用壽命，所以在實(shí)際中得到了廣泛應(yīng)用，成為當(dāng)今公認(rèn)的、能加工硬脆非金屬材料的工具。

PVD真空鍍層按照膜層應(yīng)用來(lái)分類(lèi)可分為裝飾膜層和硬質(zhì)膜層：

裝飾膜層可以改善工件外觀裝飾性能和色澤同時(shí)使工件更耐磨耐腐蝕；硬質(zhì)膜層用于提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦系數(shù)，提高工件的使用壽命。

除油—去污—流水沖洗—去離子水沖洗—脫水

過(guò)清洗線后將工件掛到PVD治具上，放入烤箱烘烤干燥

薄膜的制備方法很多，主要有氣相法和液相法，其中氣相法又分為物理氣相沉積（PVD）和化學(xué)氣相沉積（CVD）兩大類(lèi)。

現(xiàn)有鍍膜工藝，多數(shù)均要求事先對(duì)工件進(jìn)行嚴(yán)格清洗，既復(fù)雜又費(fèi)事。濺射鍍膜基本原理：充(Ar)氣的真空條件下，使氣進(jìn)行輝光放電，這時(shí)(Ar)原子電離成離子(Ar)，離子在電場(chǎng)力的作用下，加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材，靶材會(huì)被濺射出來(lái)而沉積到工件表面。離子鍍的鍍層組織致密、無(wú)、無(wú)氣泡、厚度均勻。甚至棱面和凹槽都可均勻鍍復(fù)，不致形成金屬瘤。象螺紋一類(lèi)的零件也能鍍復(fù)，有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數(shù)）、很好的耐腐蝕性和化學(xué)穩(wěn)定性等特點(diǎn)，膜層的壽命更長(zhǎng)；同時(shí)膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能