光刻膠

北京賽米萊德貿易有限公司供應美國Futurrex新型lift-off光刻膠NR9-3000PY，此款負膠的設計適用于比較寬的波長范圍和i線（366納米）曝光工具。當顯影后NR9-3000PY顯示出負的側壁角度，是lift-off工藝中比較簡易的光刻膠。8刻蝕就是將涂膠前所墊基的薄膜中沒有被光刻膠覆蓋和保護的那部分進行腐蝕掉，達到將光刻膠上的圖形轉移到下層材料的目的。和其他膠相比NR9i-3000PY有下面的優(yōu)勢：

下游發(fā)展趨勢

光刻膠的質量和性能是影響集成電路性能、成品率及可靠性的關鍵因素。光刻工藝的成本約為整個芯片制造工藝的35%，并且耗費時間約占整個芯片工藝的40%到50%。光刻膠材料約占IC制造材料總成本的4%，市場巨大。因此光刻膠是半導體集成電路制造的核心材料。2016年全球半導體用光刻膠及配套材料市場分別達到14.5億美元和19.1億美元，分別較2015年同比增長9.0%和8.0%。正膠PR1-2000A1技術資料正膠PR1-2000A1是為曝光波長為365或者436納米，可用于晶圓步進器、掃描投影對準器、近程打印機和接觸式打印機等工具。預計2017和2018年全球半導體用光刻膠市場將分別達到15.3億美元和15.7億美元。隨著12寸先進技術節(jié)點生產線的興建和多次曝光工藝的大量應用，193nm及其它先進光刻膠的需求量將快速增加

光刻膠編碼 HS編碼:	3707100001 [類注] | [章注] | [子目注釋]
中文描述:	不含銀的感光乳液劑 （CIQ碼：301:液體）
英文描述:	Non--0--silver light-sensitive emulsion agent
申報要素:	0.品牌類型；1.出口享惠情況；2.用途；3.包裝；4.成分；5.是否含銀；6.品牌；7.型號；8.是否有感光作用（以下要素僅上海海關要求）9.GTIN；10.CAS
申報要素舉例:	/ 1.感光劑；光刻膠的主要技術指標有解析度、顯影時間、異物數量、附著力、阻抗等。2.用途:感光材料，用于噴墨制版機；3.包裝:瓶裝；4.成分:重氮樹脂94%以上；5.無品牌；6.無型號
單位:	千克