等離子拋光是一種全新的金屬表面處理工藝,僅在工件表面的分子層與等離子反應,分子中原子一般間距為0.1-0.3納米,處理深度為0.3-4.5納米.拋光物的表面粗糙度在1MM范圍內(nèi),因此等離子化學活化工件表面,去除表面分子污染層,交叉鏈接表面化學物質(zhì)。

等離子拋光的優(yōu)勢。

     拋光技術(shù)是金屬表面處理的關(guān)鍵技術(shù)之一，拋光無論是在傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)還是在電子數(shù)碼產(chǎn)業(yè)中都是不可或缺的生產(chǎn)步驟。拋光是對工件表面精加工的過程，經(jīng)過拋光工序，工件表面粗糙度降低，一般說來伴隨著光澤度的提高，工件拋光后其機械、物理及化學性能都有不同程度的改善。例如，粗糙度降低光潔度提高，耐腐蝕性提高，缺口敏感性降低，摩擦系數(shù)下降，磨損減少。

不銹鋼和銅材質(zhì)的眉毛、腳絲等大配件必須在零件加工階段拋飛邊，把激光或沖床開料面手工用拉絲輪（尼龍輪）拋平。清洗和清除掉拋光蠟，不銹鋼等贓物后不銹鋼材質(zhì)的配件直接用等離子粗拋，也就是拋比較長的時間，替代手工開面、滾桶去毛刺和滾圓角三個工序。比較薄的不銹鋼材料，厚度在0.6mm以內(nèi)的是無需拋飛邊的，等離子可以直接拋好，這種工藝對于一些異型的，不好手工拋的產(chǎn)品尤其有用，太厚的料拋長時間還是有波浪印在剪裁面上，手工拋或輔助半自動機械拋是目前不得已而必須用的方法。

電解質(zhì)-等離子拋光的生產(chǎn)效率是機械拋光的5-6倍，是電化學拋光的3-4倍，而且相對化拋還非常環(huán)保；除了可以拋光、去毛刺，它還可以除油、變性處理。

等離子拋光原理：等離子也稱為物質(zhì)的第四態(tài)，是一種電磁氣態(tài)放電現(xiàn)象，使氣態(tài)粒子部分電離，這種被電離的氣體包括原子、分子、原子團、離子和電子。等離子就是在高溫高壓下，拋光劑水溶，在高溫高壓下，電子會脫離原子核而跑出來，原子核就形成了一個帶正電的離子，當這些離子達到一定數(shù)量的時候可以成為等離子態(tài)，等離子態(tài)能量很大，當這些等離子和要拋光的物體摩擦時，頃刻間會使物體達到表面光亮的效果。

    等離子就是在高溫高壓下,拋光鹽水溶,在高溫高壓下,電子會脫離原子核而跑出來,原子核就形成了一個帶正電的離子。當這些離子達到一定數(shù)量的時候可以成為等離子態(tài),等離子態(tài)能量很大,當這些等離子和要拋光的物體摩擦時,頃刻間會使物體達到表面光亮的效果，對工件的任何一個面都能拋光。

后效果為表面鏡光無任何紋路,表面棱角處產(chǎn)生r角。對工件的里面一樣拋光光亮。這塊運用這種等離子拋光主要作用在去除人工打磨紋路,少一次清洗程序,增加美觀度,成品率高。