感光(曝光)完成后就要進行下一步工作——顯影。顯影的目的是通過顯影藥將未曝光的地方?jīng)_走，經(jīng)過曝光的地方固化，這樣就能確定需要被腐蝕和不被腐蝕的圖案。以便后續(xù)蝕刻加工的精度。一般都是采用氫氧化na水溶液，氫氧化na水溶液濃度大概是5%，溫度大約在50攝氏度，浸泡3-5分鐘，時間可根據(jù)具體情況加長點。氫氧化na水溶液浸泡后，拿出板材，冷水沖洗，就可以很好地去掉感光蝕刻油墨了。

滲鍍：所謂滲鍍，即是由于干膜與覆銅箔板表面粘結(jié)不牢，使鍍液深入，而造成"負相"部分鍍層變厚及鍍好的錫鉛抗蝕層，給蝕刻帶來問題。很容易造成印制電路板的報廢，是生產(chǎn)中特別要注意的要點。

首先是預(yù)處理，蝕刻材料要處理干凈，絲印油墨時要保證油墨厚度適中，一般在0.12-0.14mm，當(dāng)然看每個工廠的實際情況與工藝。顯影要充分。顯影是與下道工序直接相連的重要工序，其質(zhì)量的好與壞是整個圖形轉(zhuǎn)移成功與否的重要標(biāo)志。

蝕刻速度決定了蝕刻加工周期的長短，蝕刻速度越快，蝕刻加工周期越短，生產(chǎn)效率越高，反之生產(chǎn)效率較低。但是，蝕刻速度也并非越快越好：

對于整體蝕刻或成型的化學(xué)蝕刻加工及鏤空圖文的蝕刻往往都是兩個面同時進行。這種雙面蝕刻加工的速度比只在一個面進行的蝕刻加工的速度快1倍，在金屬材料一定的情況下，影響蝕刻加工速度的因素很多，其中主要的是蝕刻劑的種類、濃度及蝕刻溫度。如果蝕刻劑的濃度及蝕刻條件一定，材料的特性及熱處理狀態(tài)對蝕刻加工的速度同樣有很大的影響。

蝕刻深度的均勻性主要受4個方面的影響：材料、蝕刻溶液、蝕刻過程的物理參數(shù)和蝕刻時間。綜上所述，可以知道影響確定蝕刻速度的因素主要有蝕刻深度要求及公差要求。對于蝕刻深度大的工件可以設(shè)計成高蝕刻速度的工藝方案當(dāng)對公差要求高時可采用分次蝕刻的方法進行，即先采用高速度的蝕刻方法，當(dāng)接近設(shè)計要求深度時采用低蝕刻速度的方法來保證公差。對于蝕刻深度淺、公差要求嚴的工件則應(yīng)采用蝕刻速度較慢的工藝方法。