多弧離子PVD鍍膜設備　　

腔體結構：  立式前開門，臥式前開門，后置真空獲得系統(tǒng)　　

材質用料：  腔體采用SUS304不銹鋼材質　　

離子弧源：  依據設備大小不同配備多套弧電源系統(tǒng)　　

偏壓電源：  配備大功率單級脈沖偏壓電源　　

多弧靶材：  標配多套鈦靶或不銹鋼靶材　　

轉動系統(tǒng)： 變頻調速，公自轉結合，可采用上傳動或下傳動方式　　

真空系統(tǒng)（裝飾鍍膜設備Decorative coating）：擴散泵（可選分子泵） 羅茨泵 機械泵 維持泵 深冷系統(tǒng)（可選）

氣相沉積是一種在基體表面形成功能膜層的技術，它是利用物質在氣相中產生的物理或(及)化學反應而在產品表面沉積單層或多層的、單質或化合物的膜層，從而使產品表面獲得所需的各種優(yōu)異性能。

氣相沉積作為一種表面鍍膜方法，其基本步驟有需鍍物料氣相化->輸運->沉積。它的主要特點在于不管原來需鍍物料是固體、液體或氣體，在輸運時都要轉化成氣相形態(tài)進行遷移，終到達工件表面沉積凝聚成固相薄膜。

CVD 制備銥高溫涂層人們之所以對作涂層材料感興趣是由于這類金屬優(yōu)良的性能 。銥具有較強的能力和較高的熔點而受到重視, 是一種較理想的高溫涂層材料 。

20 世紀 60 年代以來, 世界航空航天技術飛速發(fā)展,一些高熔點材料(如石墨碳和鎢鉬鉭鈮等難熔金屬)被大量使用,但這些材料的一個共同的致命缺點是能力差。

60 年代美國材料實驗室(AFML)對石墨碳的銥保護涂層進行過大量的研究, 采用了多種成型方法制備銥涂層 ,其中包括化學氣相沉積法 。雖然沒有制備出質量令人滿意的厚銥涂層, 但仍認為 CVD 是一種非常有希望且值得進一步研究的方法。