金屬首飾真空鍍膜機特點：

1、磁控濺射的原理是基于陰極輝光放電理論，擴大在陰極表面磁場接近工件表面，以增加濺射原子的電離率。它保留了磁控濺射的細膩和光澤度增加。2、電弧等離子體蒸發(fā)源性能可靠，能夠根據(jù)工作電流30A時，優(yōu)化陰極和磁場結構涂層，涂膜和基材界面產(chǎn)生原子擴散，再加上離子束輔助功能沉積。

應用行業(yè)：設備被廣泛應用于IPG的時鐘，IPS手表和鐘表，的IP，手機外殼，五金，潔具，刀具，防摩擦的工具，模具和模具等，它可以制備TiN，TiCN涂層，氮化TIALN，TiNbu，TiCrN，氮化鋯，各類鉆石薄膜（DLC）。

切削工具真空鍍膜機

切削工具真空鍍膜機可以提高工具的切削速度和給刀量，降低加工的時間和成本，更長的使用壽命降低了工具更換的成本，涂層具備的熱穩(wěn)定性、熱硬度和能力、低摩擦系數(shù)和低粘附傾向。真空鍍室的真空密封和室內運動部件的設計和用材，充分考慮可承受高溫，配置多只園形電弧蒸發(fā)源，或配多個矩形平面電弧蒸發(fā)源，也可配多只空心陰極槍，同時配置耐沖擊的、具有優(yōu)異滅閃弧性能的偏壓電源，保證足夠等離子體密度和反應活性，提高膜層致密性和結合力。工件可三維運動，提高膜層均勻性。全自動控制提高工藝穩(wěn)定性。

真空鍍膜機技術中的磁控濺射鍍膜優(yōu)勢所在鍍膜技能商品技能特色

據(jù)調查顯示，對于沉積速率，真空鍍膜機技術中的磁控濺射鍍膜運用效果很好。有項研究就是對平衡磁控濺射鍍膜和非平衡磁控濺射鍍膜進行各種對比。在這兩者之前，對其成膜的沉積速率的不同作出了實驗研究。

在實驗中，通過是平衡磁控濺射的基礎上增加附加的線圈來控制磁場的變化，形成非平衡磁控濺射條件，這種附加線圈可以改變磁場電流，調整在整個靶材表面所存在的磁場狀況，從而使其產(chǎn)生的離子密度更高，在研究數(shù)據(jù)中顯示，當離子密度提高，成膜的沉積速率也相應提高，通過這種調整電流的方式，可以提高磁控濺射鍍膜時的沉積速率。

把靶材與基底之間的距離改變，當距離越大，沉積速率就越低，相反就越高，所以要設定好靶材與基底的距離，距離大了，離子隨著磁場所產(chǎn)生的電流沉積到基底上的時間就長了，在此時間內受到真空鍍膜設備中的氣體散射的影響就多了，離子密度相對降低，距離短就受影響少，離子密度就高，但不是越短越好的，太短距離就相對減少成膜的面積，所以這個距離需要拿捏好，可以提高磁控濺射鍍膜時的沉積速率。從上述的表述我們可以知道，磁控濺射鍍膜機的技術還是十分有效的

鍍膜設備該選擇哪種主泵配置

有油真空系統(tǒng)基本是以油擴散泵為主泵，前級泵采用機械泵或者羅茨泵。我們知道，油擴散泵的壓力方位比較大，同時抽氣速率非常的高，能夠達到每秒十幾萬升。其工作能力在業(yè)內是數(shù)一數(shù)二的，這也得益于其具有良好的性能。從優(yōu)點上來講，有油真空系統(tǒng)工作可靠，沒有振動，沒有噪音，壽命長，維護建檔透支費用低，是很多廠家都喜歡使用的。但是其缺點也非常的明顯，就是會形成污染源，大規(guī)格泵在這方面更加的嚴重。