光刻技術(shù)，重頭戲是物理技術(shù)，光刻的前道工序如涂膠，后道如顯影，都是化學(xué)技術(shù)，對(duì)機(jī)器要求不算高。唯獨(dú)曝光工序才是難的，其中難又在于光刻機(jī)，也就是一只巨型單反相機(jī)，其光源和鏡頭，還有控制技術(shù)估計(jì)已經(jīng)是人類的極限了，巨難做。刻蝕說得形象點(diǎn)就是沿著曝光圖形刻槽，化學(xué)成分比較大，并不算十分關(guān)鍵的設(shè)備，我朝的刻蝕機(jī)技術(shù)還是很不錯(cuò)的。

濟(jì)南藍(lán)光同茂廣告標(biāo)牌設(shè)備公司

公司的全自動(dòng)環(huán)保蝕刻機(jī)成功應(yīng)用于濟(jì)南重汽,特變電工, 濟(jì)南泉城廣場(chǎng),山東大學(xué),山東農(nóng)業(yè)大學(xué),電力集團(tuán)等。設(shè)備銷往世界各地：迪拜、泰國、越南、印尼、新加坡、西班牙等，公司主營：蝕刻機(jī),標(biāo)牌機(jī),腐蝕機(jī),大型熱轉(zhuǎn)印機(jī),立體玻雕機(jī)、印刷設(shè)備等全系列新型數(shù)控標(biāo)識(shí)設(shè)備、技術(shù)開發(fā)、專業(yè)培訓(xùn)，是數(shù)碼標(biāo)識(shí)配套設(shè)備供應(yīng)商，公司產(chǎn)品連續(xù)多年榮獲山東消費(fèi)者滿意單位稱號(hào)。

這倆機(jī)器的解釋就是光刻機(jī)把電路圖投影到覆蓋有光刻膠的硅片上面,刻蝕機(jī)再把剛才畫了電路圖的硅片上的多余電路圖腐蝕掉,這樣看起來似乎沒什么難的,但是有一個(gè)形象的比喻,每一塊芯片上面的電路結(jié)構(gòu)放大無數(shù)倍來看比整個(gè)北京都復(fù)雜,這就是這光刻和蝕刻的難度

激光蝕刻機(jī)

相對(duì)于傳統(tǒng)的濕法蝕刻，激光蝕刻不直接接觸材料表面、CAD圖紙直寫，無須掩模，因此可靠性更強(qiáng)，良率更高，一致性更好，蝕刻線寬大小可調(diào)，圖形任意，該技術(shù)已經(jīng)廣泛應(yīng)用于觸摸屏，LCD，PDP，電子書，OLED等工業(yè)生產(chǎn)。而在其他應(yīng)用領(lǐng)域，尤其是一些更高要求的多層次材料的選擇性蝕刻，是其他傳統(tǒng)方法無法做到的。