真空鍍膜定義真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結于鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。顧名思義真空鍍膜是在真空狀態(tài)下，一般指空氣壓強在10-1～l0-4Pa 范圍，形成的薄膜層一般在l0 微米左右厚度。

陽極氧化：應用于金屬反光杯。有效反光率不到真空鍍鋁的一半。優(yōu)點是不怕紫外線、紅外線的損害，甚至可以用水清洗。

真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面，它是以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，為科學研究和實際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發(fā)或濺射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。

真空鍍膜技術具有下列優(yōu)點：

(1)薄膜和基體選材廣泛，薄膜厚度可進行控制，以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。

(2)在真空條件下制備薄膜，環(huán)境清潔，薄膜不易受到污染，因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜。

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鍍膜加工后的產(chǎn)品可以根據(jù)使用場合的需要賦予產(chǎn)品良好的性能，比如大多數(shù)電子消費品加工制造過程強調(diào)的電磁屏蔽性能即可通過在塑膠件內(nèi)壁進行導電性真空鍍膜加工的方式而獲得，在相同地功效下，相對于原來采用銅箔或鋁箔的制造工藝，鍍膜工藝具有很大的優(yōu)勢。