真空鍍膜機(jī)一般是由真空室、真空機(jī)組、電氣控制柜三大部分組成。因此，選用現(xiàn)代化光學(xué)鍍膜系統(tǒng)的關(guān)鍵取決于對(duì)以下因素的認(rèn)真考慮：對(duì)鍍膜產(chǎn)品的預(yù)期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保證高度一致性工藝所必需的所有技術(shù)因素。排氣系統(tǒng)為真空鍍膜機(jī)真空系統(tǒng)的重要部分，主要有由機(jī)械泵、增壓泵、油擴(kuò)散泵三大部分組成。裝飾真空鍍膜設(shè)備是蒸發(fā)式鍍膜裝置，在真空室中利用電阻加熱法，將緊貼在電阻絲上的金屬絲（鋁絲）熔融汽化，汽化了金屬分子沉積于基片上，而獲得光滑高反射率的膜層，達(dá)到裝飾美化物品表面的目的。玻璃真空鍍膜設(shè)備

真空鍍膜技術(shù)是真空應(yīng)用技術(shù)的一個(gè)重要分支，它已廣泛地應(yīng)用于光學(xué)、電子學(xué)、能源開發(fā)，理化儀器、建筑機(jī)械、包裝、民用制品、表面科學(xué)以及科學(xué)研究等領(lǐng)域中。真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積鍍以及分子束外延等。真空鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技術(shù)，是表面工程技術(shù)領(lǐng)域的重要組成部分。此外還有化學(xué)氣相沉積法。如果真空鍍膜的目的是為了改變物質(zhì)表面的物理、化學(xué)性能，則這一技術(shù)又是真空鍍膜處理技術(shù)中的重要組成部分。

真空鍍膜機(jī)是指需要在各種高真空狀態(tài)下進(jìn)行的涂層，包括真空離子蒸發(fā)、磁控濺射、MBE分子束外延、PLD激光濺射沉積組成。

真空鍍膜機(jī)也是目前制造真空條件使用的真空設(shè)備，一般由真空室、真空機(jī)、電控盒三部分組成。鍍膜設(shè)備的清洗：設(shè)備使用一周后，涂層材料不僅涂在工件表面，而且由于不定向，還涂在工作室的襯板上，涂層厚度越來越厚。但是真空鍍膜設(shè)備在使用一段時(shí)間后，表面就會(huì)留下灰塵影響真空鍍膜的整體效果。這一層的膜厚由于組織和纏繞而松散，吸收了大量氣體，導(dǎo)致真空鍍膜設(shè)備泵送越來越慢，所以這個(gè)時(shí)候工作室和襯板都要清理干凈。如果不必要地拆下零件，可以用砂紙打磨。