什么是真空鍍膜技術(shù)？

所謂真空鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內(nèi)，采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發(fā)或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。

在真空條件下成膜有很多優(yōu)點：可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)（如氧化等），以及減少成膜過程中氣體分子進入薄膜中成為雜質(zhì)的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內(nèi)壓力等于或低于10-2Pa，對于蒸發(fā)源與基板距離較遠和薄膜質(zhì)量要求很高的場合，則要求壓力更低。

真空鍍膜機工件除氣的必要性和真空鍍膜機分類介紹

真空狀態(tài)是支持真空鍍膜機運作的環(huán)境，特別是需要高真空度的設(shè)備，通常我們需要達到高真空度，抽氣系統(tǒng)的作用是功不可沒的，但除了抽氣系統(tǒng)外，在真空鍍膜設(shè)備運行的過程中，還有一點就是，工件的除氣。

有些工件它本身內(nèi)部存在著很多的氣體、水分等，這些物質(zhì)都會隨著設(shè)備加熱時被排放到真空室中，降低了真空度，更甚者，有些氣體帶有毒性成分，直接損害到真空室內(nèi)部機械結(jié)構(gòu)，造成設(shè)備不能正常運作。另外，正在鍍膜過程中，由于工件內(nèi)氣體加熱膨脹，容易使已經(jīng)鍍上的膜層裂開，當(dāng)然這個情況出現(xiàn)的機率視工件本身物理性質(zhì)有關(guān)，像塑料等容易膨脹的，機率就比較高，像金屬等硬質(zhì)的，機率就比較低，但也不能忽視，因此工件的除氣是非常必要的。

通常我們使用的工件除氣方法是烘烤，通過加熱把工件內(nèi)的氣體、水分排出，在鍍膜前，抽氣的同時，對工件進行加熱，當(dāng)工件內(nèi)水分和氣體由于加熱而放出后，隨著真空室內(nèi)的氣體一起被真空泵抽出。

針對不同的工件采取不一樣的除氣措施，有效控制工件內(nèi)部氣體與水分排放，提高鍍膜的穩(wěn)定性和均勻性。真空鍍膜機分類和適用范圍真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

真空鍍膜設(shè)備的正常工作條件

1.環(huán)境溫度：10~30℃

2.相對濕度：不大于70%

3.冷卻水進水溫度：不高于25℃

4.冷卻水質(zhì)：城市自來水或質(zhì)量相當(dāng)?shù)乃?

5.供電電壓：380V，三相50Hz或220V，單相50Hz，電壓波動范圍342~399V或198V~231V，頻率波動范圍49~51Hz；

6.設(shè)備所需的壓縮空氣、液氮、冷熱水等壓力、溫度、消耗量均應(yīng)在產(chǎn)品使用說明書上寫明。

7.設(shè)備周圍環(huán)境整潔、空氣清潔，不應(yīng)有可引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導(dǎo)電的塵埃或氣體存在。