在電位差的作用下移動到陰極上形成鍍層。陽極的金屬形成金屬離子進入電鍍液，以保持被鍍覆的金屬離子的濃度。鍍鎳：打底用或做外觀，增進抗蝕能力及耐磨能力，（其中化學鎳為現(xiàn)代工藝中耐磨能力超過鍍鉻）。注意，許多電子產品，比如DIN頭，N頭，已經不再使用鎳打底，主要是由于鎳有磁性，會影響到電性能里面的無源互調。

濃差極化由于鄰近電極表液層的濃度與溶液主體的濃度發(fā)生差異而產生的極化稱濃差極化，這是由于溶液中離子擴散速度小于電子運動造成的。當金屬電極浸入含有該金屬離子的溶液中時，存在如下的平衡，即金屬失電子而溶解于溶液的反應和金屬離子得電子而析出金屬的逆反應應同時存在：Mn ne = M。電鍍反應中的電化學反應：下圖《電鍍原理圖》電鍍裝置示意圖，被鍍的零件為陰極，與直流電源的負極相連。

電鍍時，陽極材料的質量、電鍍液的成分、溫度、電流密度、通電時間、攪拌強度、析出的雜質、電源波形等都會影響鍍層的質量，需要適時進行控制。在生產中經常遇到的是在零件的尖角和邊緣處容易發(fā)生“燒焦”現(xiàn)象，嚴重時會形成樹枝狀結晶或者是海綿狀鍍層。任何鍍液都有一個獲得良好鍍層的電流密度范圍，獲得良好鍍層的小電流密度稱電流密度下限，獲得良好鍍層的大電流密度稱電流密度上限。

故對電流波形的選擇應予重視。除采用一般的直流電外，根據(jù)實際的需要還可采用周期換向電流及脈沖電流。Ni會引發(fā)皮炎，歐盟早已拒絕含Ni飾品進口，鈀是佳的代Ni金屬。本項目完成于1997年，包括二種工藝：薄鈀電鍍。全光亮鍍層厚度可達40μm以上，鍍層表面電阻~41μΩ·㎝，硬度～HV101.4，熱沖擊298K（25℃）合格，非常接近化鍍銀的性能。