電腐蝕機腐蝕的特性    1、工藝復雜要求較高，需對位密貼工件。    2、電蝕刻出來的邊角不夠平滑有毛刺麻點    3、深度達不到也不好掌控深淺。    4、質(zhì)量不可控，只有完全成型了之后才能判斷是否為良品，報廢率高。    5、表面附著一層黑色物質(zhì)難以清理，影響后期上色。    6、紋路圖案更換起來成本會比較高。    7、腐蝕時間太慢，產(chǎn)量低。蝕刻機可以分為化學蝕刻機及電解蝕刻機兩類。在化學蝕刻中是使用化學溶液，經(jīng)由化學反應以達到蝕刻的目的，化學蝕刻機是將材料用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術。




 刻蝕機目前國際上主要的供應商為應用材料、LamResearch等。中國方面技術有慢慢追上的趨勢，即將登錄科創(chuàng)板的中微半導體，其自主研發(fā)的5nm等離子體刻蝕機經(jīng)臺積電(2330-TW)驗證，將用于全球首條5nm制程生產(chǎn)線。而北方華創(chuàng)則是在14nm技術有所突破。市場預估今明兩年中國刻蝕機需求分別達15億美元與20億美元。    拋光：可以使晶圓表面達到性的平坦化，以利后續(xù)薄膜沉積工序。美國應用材料、Rtec等均為國際上主要供應商，中國則有中電科裝備、盛美半導體等。但陸廠的產(chǎn)品才剛打入8寸晶圓廠中，12寸的相關設備還在研發(fā)，明顯與國際大廠有實力上的差距。市場預計今明兩年中國拋光機需求將達3.77億美元與5.11億美元。

腐蝕是將金屬工件使用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術。

腐蝕技術可以分為『濕腐蝕』(wet etching)及『干腐蝕』(dry etching)兩類。

通常所指腐蝕也稱光化學腐蝕（photochemical etching），指通過貼不干膠；曝光制版、顯影后或絲印網(wǎng)版形成圖像轉移，將需腐蝕區(qū)域的保護油墨去除露出需要腐蝕的地方，在腐蝕時金屬接觸化學溶液，達到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。

最早可用來制造銅版、鋅版、不銹鋼等印刷凹凸版，也廣泛地被使用于減輕重量(Weight Reduction)儀器鑲板，廣告牌標牌及傳統(tǒng)加工法難以加工之薄形工件等之加工；經(jīng)過不斷的技術改良和工藝設備發(fā)展，也可以用于航空、機械、化學工業(yè)中電子薄片零件精密腐蝕產(chǎn)品的加工，特別在半導體制程上，腐蝕更是不可或缺的技術。

比如不銹鋼過濾網(wǎng)片，圓孔均為采用鏤空腐蝕工藝成型。

工藝流程：清潔工件去油污(不銹鋼或其他金屬工件)--- 涂布---烤干---曝光--- 顯影--蝕刻—退膜