電阻絲是工業(yè)生產(chǎn)過程中重要的加熱材料，其使用壽命的長短對于正常生產(chǎn)有著重要的作用。但在生產(chǎn)中，由于種種的原因，電阻絲經(jīng)常會發(fā)生燒斷的現(xiàn)象，使生產(chǎn)不能順利進行。為了提高電阻絲的使用率，我們在生產(chǎn)實踐過程中，經(jīng)過較長時間的分析和研究，找出了電阻絲燒斷的原因，并采取措施加以解決，取得了良好效果。

1．原因分析

(1)電源電壓偏高  由于大多數(shù)電阻絲都是與空氣直接接觸的，當電源電壓一旦偏高，電阻絲在高溫下就容易發(fā)生氧化，以致于燒斷。

(2)連接材料不同  不同的合金材料，其膨脹系數(shù)是不同的，電阻絲受熱時，連接點處氧化物增多，接點之間的間隙變大，接點處最容易燒斷。，

(3)電阻絲繞制不勻  繞制不勻的電阻絲密疏不一，受熱時，密的地方溫度高于疏的地方，時間一長就會出現(xiàn)倒伏現(xiàn)象，使電阻絲燒斷。

(4)電阻絲殘渣過多  殘渣過多的話，勢必增加氧化物，使電阻絲過早斷裂。

(5)一些外部因素  如頻繁開關箱式爐門，使測溫元件(熱電偶)震出，爐內(nèi)的實際溫度遠高于設定溫度，在高溫下電阻絲易被氧化；三相四線電爐中，若中性線燒斷后，電壓偏高，若保護不當?shù)脑?，也會引起電阻絲燒斷。

2．具體措施

針對上述分析，我們采取了下列維護措施：

(1)在一些重要的加熱沒備中，我們采用三相調(diào)壓器進行電源電壓調(diào)節(jié)，使其恒定，杜絕了電壓偏高的現(xiàn)象發(fā)生。

   (2)去除電阻絲接點上的氧化物。對大功率電阻絲接點處理時，先用醋酸浸泡電阻絲接點10min后，再用硬鋼絲刷(或鐵砂布)去掉氧化物，最后用酒精浸泡清洗干凈后晾干即可使用。接點處在連接時，低溫電阻絲接點處用凡士林涂裹，高溫電阻絲接點處用玻璃粉粘合，也可用錫焊接點。

   (3)對將要使用的電阻絲進行通電拉勻處理，使電阻絲密疏一致，防止電阻絲密疏不一，受熱時出現(xiàn)倒伏現(xiàn)象。

   (4)定期清除爐絲上的殘渣，去除氧化物。

   (5)經(jīng)常檢查測溫元件的位置是否有所變動，若測溫元件(熱電偶)震出來了，則必須重新固定好；要檢查三相四線中的中性線是否牢固。

   3．結(jié)語

采取以上的措施后，在化驗室里經(jīng)過了多年的實踐應用，效果良好，不僅提高了電阻絲的使用率，延長了電阻絲的壽命，同時在很大程度上減少了維修人員的工作量，降低了經(jīng)濟成本。

v印制蝕刻工藝流程：

v下料→板面清潔處理→涂濕膜→曝光→顯影（貼干膜→曝光→顯影）→蝕刻→去膜→進入下工序

v畋形電鍍工藝過程概括如下：

v下料→鉆孔→孔金屬化→預鍍銅→板面清潔→涂濕膜→曝光→顯影（貼干膜→曝光→顯影）→形成負相圖象

→圖形鍍銅→圖形電鍍金屬抗蝕層→去膜→蝕刻→進入下工序

圖像轉(zhuǎn)移有兩種方法，一種是網(wǎng)印圖像轉(zhuǎn)移，一種是光化學圖像轉(zhuǎn)移。網(wǎng)印圖像轉(zhuǎn)移比光

化學圖像轉(zhuǎn)移成本低，在生產(chǎn)批量大的情況下更是如此，但是網(wǎng)印抗蝕印料通常只能制造大于 或等于o．25mm的印制導線，而光化學圖像轉(zhuǎn)移所用的光致抗蝕劑朗制造分辨率高的清晰圖

像。本章所述內(nèi)容為后一種方法。光化學圖像轉(zhuǎn)移需要使用光致抗蝕劑，下面介紹有關光致抗蝕劑的一些基本知識

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v一般在產(chǎn)品包裝單或產(chǎn)品說明書上都標出光致抗蝕層的厚度，可根據(jù)不同的用途選用不

同厚度的干膜。如印制蝕刻工藝可選光致抗蝕層厚度為25μm的干膜，圖形電鍍工藝則需選光 致抗蝕層厚度為40μm的干膜。如用于掩孔，光致抗蝕層厚度應達到50μm。如鍍厚金板還得選用50μm的專用鍍金干膜,一般情況下, 40μm的干膜都可以滿足正常的要求,在一些廠家, 40μm的干膜都可以做線寬線隙為3MIL的平行線了, 掩孔方面,也可掩住4.5MM以下的孔,當然,對那些線路簡單而掩5.0MM以上的孔,選用50μm的干膜.有一些板,線路很密,要掩的NPTH孔又都超過5.0MM,這時候可以考慮用40μm的干膜,再進行二次鉆孔了(既蝕刻后鉆孔)。

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