自動(dòng)控制系統(tǒng):包括溫度控制

自動(dòng)控制系統(tǒng)：包括溫度控制，溫度控制，風(fēng)量風(fēng)壓控制，開啟順序和時(shí)間控制;電氣系統(tǒng)：照明，電力和弱電，包括凈化燈，插座，電氣柜，線路，監(jiān)控，電話等強(qiáng)弱系統(tǒng);給排水系統(tǒng)：供水，排水管道，設(shè)施和控制裝置;地面系統(tǒng)：環(huán)氧樹脂通常用于清潔地面。 信封結(jié)構(gòu)系統(tǒng)：簡(jiǎn)單來說，它是頂部，墻壁和地面，即構(gòu)成三維受限空間的六個(gè)面。精美，包括門窗，裝飾弧等;管道系統(tǒng)：包括供氣，回風(fēng)，新風(fēng)，排風(fēng)管，端部和控制裝置;

千級(jí)凈化手術(shù)室,對(duì)于腦部手術(shù)十分必要

千級(jí)凈化手術(shù)室，對(duì)于腦部手術(shù)十分必要。以前不敢做或不能做的手術(shù)，由于有了較高的凈化環(huán)境，現(xiàn)在國(guó)內(nèi)許多醫(yī)院都可以做了。在電子工廠，由于有了較高的凈化環(huán)境，可以在很小的體積上，集成幾千萬個(gè)電子元器件。我們常用的手機(jī)等電子產(chǎn)品，就必須有良好的凈化環(huán)境才能生產(chǎn)。才會(huì)愈做愈精、功能愈做愈大。在凈化環(huán)境下，我們的計(jì)算機(jī)房，不會(huì)因?yàn)榛覊m產(chǎn)生故障。在實(shí)驗(yàn)室，我們的實(shí)驗(yàn)不會(huì)受到灰塵的干擾。在工廠，我們可以生產(chǎn)出保質(zhì)期很長(zhǎng)的放心食品。凈化環(huán)境的廣泛應(yīng)用，造福社會(huì)、造福人類。

潔凈室中的溫濕度控制

潔凈室中的溫濕度控制 潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應(yīng)考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對(duì)溫濕度的要求也越來越嚴(yán)的趨勢(shì)。 具體工藝對(duì)溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細(xì)，所以對(duì)溫度波動(dòng)范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時(shí)要求濕度值一般較低，因?yàn)槿顺龊挂院?，?duì)產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間，這種車間不宜超過25度。 濕度過高產(chǎn)生的問題更多。相對(duì)濕度超過55%時(shí)，冷卻水管壁上會(huì)結(jié)露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會(huì)引起各種事故。相對(duì)濕度在50%時(shí)易生銹。此外，濕度太高時(shí)將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面耐難以清除。相對(duì)濕度越高,粘附的難去掉，但當(dāng)相對(duì)濕度低于30%時(shí)，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對(duì)于硅片生產(chǎn)佳溫度范圍為35—45%。 潔凈室中的氣壓規(guī)定 對(duì)于大部分潔凈空間，為了防止外界污染侵入，需要保持內(nèi)部的壓力（靜壓）高于外部的壓力（靜壓）。壓力差的維持一般應(yīng)符合以下原則： 1．潔凈空間的壓力要高于非潔凈空間的壓力。 2.潔凈度級(jí)別高的空間的壓力要高于相鄰的潔凈度級(jí)別低的空間的壓力。 3.相通潔凈室之間的門要開向潔凈度級(jí)別高的房間。 壓力差的維持依靠新風(fēng)量，這個(gè)新風(fēng)量要能補(bǔ)償在這一壓力差下從縫隙漏泄掉的風(fēng)量。所以壓力差的物理意義就是漏泄（或滲透）風(fēng)量通過潔凈室的各種縫隙時(shí)的阻力。