公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質量掩膜版以及后期的代加工服務！

標定板圖紙內(nèi)容如下：

1.   需要附上材料

2.   精度

3.   外形尺寸公差，厚度

4.   制作效果圖紙：正負板之分等。（如果考慮價格因素，需要強調(diào)多少倍率下面允許看到瑕疵）

5.   需要提供詳細的CAD圖紙（圖紙i好不要畫比例圖紙）。以上為制作標定板完整信息

光學掩模板的應用

光掩膜用于芯片制造，主要是IC（集成電路）芯片，還應用于制作純平顯示器、薄膜磁頭以及PC板等。

光掩膜所起的作用類似于底片之于相片，光刻通過光掩膜在芯片上顯影。如果圖形通過掩膜版在芯片兩面多次顯影，這種方法就是熟稱的曝光，這個時候的掩膜也可稱為光罩。

準納光電制作掩膜板，光刻鉻版，設計，制作，加工，批量化生產(chǎn) 蝕刻工藝 精度1um 承接掩模板，光刻鉻板，標定板，光柵板，分劃板，異型玻璃加工

接觸光刻技術中使用的掩模的表面特征圖案的尺寸與實際掩模的尺寸相同。i在襯底上形成的圖案是1∶1，并且以直接接近光致抗蝕劑層表面的方式曝光i光線；原位芯片目前掌握多種刻蝕工藝，并會根據(jù)客戶的需求，設計刻蝕效果好且性價比高的刻蝕解決方案。另一方面，縮微技術中使用的掩模具有表面特征圖案的實際尺寸。i在襯底上形成的圖案的幾次通過光學系統(tǒng)投影模式曝光i光明。 

在容柵電子光學微影技術性中，光罩表層的擋光圖樣會與基鋼板上的光阻層觸碰磨擦，非常容易促使擋光圖樣損耗促使光罩使用期減少。另一個，當施膠光亮阻層的基鋼板表層并不是十分整平時，光罩與光阻層會造成不確定性的間隙與間距，而導致光源的光學散射與繞射，從而導致曝i光的規(guī)格偏差，而且導致光阻層淺部一部分的側面曝i光范疇擴張，因此沒法制做出深奧長寬比的光阻構造。自然界中光的三原色是紅、綠、蘭，這三種色光不同的組合可組成無數(shù)種色光。