無(wú)塵凈化車(chē)間施工裝修時(shí)的要求及注意事項(xiàng)

現(xiàn)今社會(huì)，無(wú)塵凈化車(chē)間的裝修被很多生產(chǎn)型企業(yè)所重視，無(wú)塵凈化車(chē)間不僅能對(duì)產(chǎn)品的精度、質(zhì)量、穩(wěn)定性及成功率等都有顯著的作用，同時(shí)還能在一定情況下保證工作人員的工作安全。在之前的文章里，我們講解了關(guān)于無(wú)塵凈化車(chē)間施工裝修時(shí)的要求及注意事項(xiàng)，今天繼續(xù)為大家講述凈化車(chē)間的基本要求。 廠房、設(shè)備、容器應(yīng)按什么要求制定清潔規(guī)程？ 廠房、設(shè)備、容器等均應(yīng)按藥品生產(chǎn)車(chē)間、工序、崗位生產(chǎn)和空氣潔凈度等級(jí)的要求制定清潔規(guī)程，其內(nèi)容包含：清潔辦法、程序、間隔時(shí)間、運(yùn)用的清潔劑或消毒劑，清潔東西的清潔辦法和寄存地址。

我國(guó)使用的0

我國(guó)使用的0.1微米十級(jí)潔凈室主要依賴(lài)從國(guó)外進(jìn)口。由于高潔凈級(jí)別的潔凈室造價(jià)十分昂貴，0.1微米十級(jí)潔凈室每平方米造價(jià)高達(dá)1萬(wàn)美元以上。在大規(guī)模集成電路制造裝備的投資中潔凈廠房占有相當(dāng)高的比例，這與集成電路工藝不斷更新，產(chǎn)品更新?lián)Q代周期越來(lái)越快的發(fā)展趨勢(shì)不相適應(yīng)，嚴(yán)重制約了大規(guī)模集成電路技術(shù)的發(fā)展。美國(guó)ASYST公司、德國(guó)MW公司發(fā)展的使用隔離技術(shù)的亞微米生產(chǎn)微環(huán)境系統(tǒng)設(shè)備和技術(shù)在近幾年中得到廣泛采用。該項(xiàng)的潔凈技術(shù)在100級(jí)潔凈度的潔凈廠房中，采用工藝設(shè)備局部使用隔離技術(shù)的微環(huán)境，把投資比例壓縮到別的微環(huán)境，消除了操作者與工藝設(shè)備運(yùn)行的二次污染源產(chǎn)生對(duì)集成電路成品率和可靠性的影響作用。

潔凈技術(shù)方向發(fā)展空氣分子污染

潔凈技術(shù)方向發(fā)展 空氣分子污染（Airborne Molecular Contaminants，AMC）作為IC工廠所關(guān)心的問(wèn)題于20年前由日本人提出，近年來(lái)，世界IC技術(shù)發(fā)展迅速，IC芯片日益微型化。AMC對(duì)當(dāng)前的IC生產(chǎn)其潛在的污染比粒子污染要廣泛多，粒子污染控制只需要確定粒徑及個(gè)數(shù)，但對(duì)AMC控制而言，除了受芯片線寬的縮小而變化外，并受工藝、工藝設(shè)備、工藝材料及傳送系統(tǒng)等的影響。更有甚者用于某一工序的各種工藝材料（化學(xué)品、特種氣體等）在很多情況下其微量的分子殘余對(duì)下一工序往往可能就是污染物。因此，IC生產(chǎn)過(guò)程中的某些加工工序及工序間的材料傳送和存放環(huán)境中，AMC已成為嚴(yán)重影響成品率的重要問(wèn)題，AMC分子控制技術(shù)成為潔凈工程設(shè)計(jì)與施工建設(shè)的主流趨勢(shì)。目前，國(guó)內(nèi)的潔凈工程企業(yè)中已經(jīng)開(kāi)始從事此方向的研究，在該領(lǐng)域比較的企業(yè)有亞翔集成，在分子凈化技術(shù)方面該公司已經(jīng)走在了同行業(yè)的前列，而中國(guó)電子工程設(shè)計(jì)院則在防微震方面。