微弧氧化技術特點

（1）大幅度地提高了材料的表面硬度，顯微硬度在1000至2000HV，高可達3000HV，可與硬質合金相媲美，大大超過熱處理后的高碳鋼、高合金鋼和高速工具鋼的硬度；

（2）良好的耐磨損性能；

（3）反應在常溫下進行，操作方便，易于掌握。

（4）基體原位生長陶瓷膜，結合牢固，陶瓷膜致密均勻。微弧氧化、微弧氧化技術、微弧氧化生產線、微弧氧化電源

影響微弧氧化的因素

1、微弧氧化時間的影響：微弧氧化時間一般控制在10～60min。氧化時間越長，膜的致密性越好，但其粗糙度也增加。

2、陰極材料：微弧氧化的陰極材料采用不溶性金屬材料。由于微弧氧化電解液多為堿性液，故陰極材料可采用碳鋼，不銹鋼或鎳。其方式可采用懸掛或以上述材料制作的電解槽作為陰極。微弧氧化電源、微弧氧化生產線、微弧氧化技術

微弧氧化膜的性能特點

1. 硬度極高，可達1500-2000HV.比一般陽極氧化或電鍍處理高許多；

2. 耐磨性極佳；

3. 耐腐蝕性好，耐中性鹽霧可達2000h以上；

4. 絕緣性能良好；

5. 附著力良好，將工件加熱至300℃，立即浸入冷水中，反復數(shù)次都未發(fā)現(xiàn)氧化膜掉落。微弧氧化技術、微弧氧化設備、微弧氧化生產線、微弧氧化電源的好處、微弧氧化廠家

微弧氧化工藝

      微弧氧化是通過用專用的微弧氧化電源在工件上施加高電壓，使工件表面的金屬與電解質溶液相互作用，在工件表面形成微弧放電，在高溫、電場等因素的作用下，金屬表面形成陶瓷膜，達到工件表面強化、硬度大幅度提高、耐磨、耐蝕、耐壓、絕緣及抗高溫沖擊特性得到改善的目的。在微弧氧化過程中，化學氧化、電化學氧化、等離子體氧化同時存在,因此陶瓷層的形成過程非常復雜，至今還沒有一個合理的模型能完全描述陶瓷層的形成。微弧氧化生產線、微弧氧化電源、微弧氧化工藝設備、微弧氧化工藝原理