，在真空環(huán)境下，固體四氯代對(duì)環(huán)二體在150℃左右升華為氣態(tài)；

第二，在650℃左右四氯代對(duì)環(huán)二體裂解成帶自由基的活性2,5-二氯對(duì)二亞苯；

第三，在室溫(25℃)條件下，游離態(tài)的2,5-二氯對(duì)二亞苯在固態(tài)基材表面沉積聚合，形成一層無的保形性薄膜。

  Parylene薄膜具有厚度均勻、致密無、透明無應(yīng)力、優(yōu)異的電絕緣性和防護(hù)性等特點(diǎn)，可應(yīng)用在光電材料、磁性材料、服裝及保護(hù)等領(lǐng)域，因其生物兼容性和生物穩(wěn)定性，還可以應(yīng)用在領(lǐng)域。然而，需要注意的是，Parylene涂覆對(duì)于材料表面的要求比較高，要求附著力好，無雜質(zhì)，因此在進(jìn)行涂覆前，必須對(duì)物件的表面進(jìn)行一定預(yù)處理，以增加涂覆物件的附著力。

在室溫環(huán)境下，Parylene可以抵抗化學(xué)物質(zhì)的侵襲，并且在150℃下不溶于所有的。ParyleneC在175℃時(shí)可以消融與氯中，而ParyleneN在溶劑的熔點(diǎn)（265℃）時(shí)可溶。兩種高聚物都可以抵抗大多數(shù)溶劑的侵襲。同時(shí)，它們也不受像Hostepal, Igepal 和檸檬油這類的應(yīng)力裂解溶劑的影響。

Parylene在可見光的范圍內(nèi)吸取得很少，因此是透明無色的。無色透明的薄膜可用于光學(xué)器件、可擦性光電儲(chǔ)存器件和靜電復(fù)印器件。在低于280微米時(shí),ParyleneN和ParyleneC的吸取都很強(qiáng)。所有的Paryleng在至少60微米的波長(zhǎng)下都相對(duì)沒有特征（除了一些峰值特征以外）。圖5，6和7透露表現(xiàn)1個(gè)mil薄膜的紅外光譜。

真空鍍膜加工有哪些優(yōu)勢(shì)？

1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

Parylene HT（SCS）該材料具有更低的介電常數(shù)(即透波性能好)、好的穩(wěn)固性和防水、防霉、防鹽霧性能.短期耐溫可達(dá)450攝氏度,長(zhǎng)期耐溫可達(dá)350攝氏度,并具有強(qiáng)的抗紫外線能力.更適合作為高頻微波器件的防護(hù)材料.

真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。

Parylene是獨(dú)特的聚對(duì)二甲苯(poly-P-xylylene)聚合物系列的通用名稱，是一種分子級(jí)敷型涂層材料，根據(jù)分子結(jié)構(gòu)的不同，可分為Parylene N、C、D、HT、F型等多種類型。

Parylene鍍膜加工