鍍硬鉻問題解答及其工藝影響因素分析：

問題：鍍硬鉻，其厚度和硬度一般能夠達到多少?。?

 關(guān)于這一問題，其具體的回答是：鍍硬鉻，其厚度能達到0.03—0.07mm，硬度上能夠達到HV800以上。

在鍍硬鉻工藝中，其也是有一些影響因素的，所以下面小編就來分析講解一下。

 CrO3濃度與導(dǎo)電性：在鉻酐小于450g/l這一條件下，一般是鉻酐濃度越高，則導(dǎo)電性能就越好。

溫度與導(dǎo)電性：一般是溫度越高，則導(dǎo)電性越好。

CrO3濃度與電流效率：一般是鉻酐濃度越高，則電流效率會下降。

三價鉻方面：

三價鉻少，則鍍層沉積速率會變慢；三價鉻高，則會使鍍層變暗。

三價鉻增加，則會使導(dǎo)電度下降，還會影響到鍍層的光澤度。

電鍍硬鉻技術(shù)除氫處理，氫脆是一種由于氫滲入金屬內(nèi)部導(dǎo)致?lián)p傷，從而使金屬材料在低于材料屈服強度的靜應(yīng)力作用下發(fā)生的延遲斷裂現(xiàn)象。 氫脆在工程上是一種比較普遍的現(xiàn)象，尤其在電鍍加工生產(chǎn)過程中極易導(dǎo)致金屬材料產(chǎn)生氫脆，電鍍過程中的氫脆主要發(fā)生在酸洗、電鍍等工序中。  

因此許多制件在進行電鍍加工后，都會進行去氫處理，避免氫脆而導(dǎo)致的危害。

鍍硬鉻廠家介紹電鍍槽的尺寸設(shè)置，通常說的電鍍槽尺寸大小，指的是電鍍槽內(nèi)腔盛裝電解液的體積(L)，即電鍍槽內(nèi)腔長度×內(nèi)腔寬度×電解液深度。一般可根據(jù)電鍍加工量或已有直流電源設(shè)備等條件來測算選配，選配適宜的電鍍槽尺寸對編制生長計劃、估算產(chǎn)量和保證電鍍質(zhì)量都具有十分重要的意義。

確定電鍍槽尺寸大小時，必須滿足以下3個基本條件：

1、滿足被加工零件的電鍍要求，如能夠完全浸沒零件需電鍍加工全部表面。

2、防止電鍍液發(fā)生過熱現(xiàn)象。

3、能夠保持電鍍生產(chǎn)周期內(nèi)電解液成分含量一定的穩(wěn)定性。

當(dāng)然，同時還要考慮到生產(chǎn)線上的整體協(xié)調(diào)性，滿足電鍍車間布局的合理性等要求。

鍍硬鉻工藝特色：

1.陰極電流電流效率髙，可達22-26%

2.可使用電流密度高達60安培/平方分米以上，沉積速度因此極大提高

3.與其它的混合催化劑鍍鉻工藝不同，RC-25不含氟化物，不會浸蝕工件的低電流區(qū)

4.鍍層的顯微硬度達1000-1100KHN100鍍層的微裂紋數(shù)可達1000條/英寸，防腐蝕能力因而提高

5.鍍層平滑，細致光亮

6.鍍層厚度均勻，減少高電流密度之過厚沉積

7.不會浸蝕鉛錫陽極，無需使用特殊陽陰極材料

8.前處理流程、陽極、鍍槽等均與一般傳統(tǒng)鍍鉻工藝一樣