至成真空技術(shù)工程有限公司是一家專業(yè)研究制造生產(chǎn)真空鍍膜設(shè)備及其它真空相關(guān)設(shè)備的國家高新科技企業(yè)。公司本著“專注研究鍍膜工藝，提供的產(chǎn)品及服務(wù)”的理念，贏得國內(nèi)外客戶的滿意及信任，并成功打開國外市場。我們將會秉承客戶的認(rèn)可，將鍍膜機(jī)研發(fā)事業(yè)推向新的高峰。

本公司制造的真空鍍膜設(shè)備系列：電阻蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備、電子束蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備、磁控濺射真空鍍膜設(shè)備、多弧離子真空鍍膜設(shè)備、多功能真空鍍膜設(shè)備以及真空焊接設(shè)備等。各類真空鍍膜設(shè)備廣泛用于家電電器、鐘表、玩具、車燈燈罩、手機(jī)、工具、陶瓷、瓷磚、塑料、玻璃、五金、光學(xué)、電子等高科技產(chǎn)業(yè)方面，已成功的為客戶開發(fā)出滿足各種不同要求的鍍膜工藝方案。

磁控濺射鍍膜設(shè)備鍍膜優(yōu)勢

磁控濺射鍍膜機(jī)有很多種類型，有中頻的，也有直流的。在生活中應(yīng)用也是非常的廣泛，如：手提電腦、手機(jī)殼、電話、無線通訊、試聽電子、工具、表殼、手機(jī)殼、五金等。它的優(yōu)勢也是非常的凸顯.

磁控濺射鍍膜設(shè)備配置了等離子體處理裝置，磁控濺射陰極和電阻蒸發(fā)裝置等，設(shè)備沉積速率快，鍍層附著力好，鍍層細(xì)膩致密，表面光潔度高，且均勻性一致性良好;該機(jī)實現(xiàn)鍍膜工藝全自動化控制，裝載量大，工作可靠，合格率高，生產(chǎn)成本低，綠色環(huán)保。該設(shè)備主要廣泛應(yīng)用于電腦殼、手機(jī)殼、家用電器等行業(yè)，可鍍制金屬膜、合金膜、復(fù)合膜層、透明(半透明)膜、不導(dǎo)電膜、EMI電磁屏蔽膜等。

磁控濺射鍍膜機(jī)將磁控濺射技術(shù)和真空蒸發(fā)技術(shù)結(jié)合在同一真空鍍膜設(shè)備里，既利用磁控濺射陰極輝光放電將靶材原子賤出并部分離化沉積在基材成膜，同時又可利用在真空中以電阻加熱將金屬鍍料熔融并讓其氣化再沉積在基材上成膜，增加了設(shè)備的用途和靈活性。該設(shè)備應(yīng)用于手機(jī)殼等塑料表面金屬化，應(yīng)用于不導(dǎo)電膜和電磁屏蔽膜沉積。

多弧離子真空磁控濺射鍍膜機(jī)工作原理蒸發(fā)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)與工作原理介紹

多弧離子鍍膜機(jī)是一種、無害、無污染的離子鍍膜設(shè)備，具有堆積速度快、離化率高、離子能量大、設(shè)備操作簡略、本錢低、出產(chǎn)量大的長處。

真空多弧離子鍍膜機(jī)偏壓電源的作業(yè)原理

離子鍍膜正本是離子濺射鍍膜，關(guān)于導(dǎo)電靶材，運(yùn)用直流偏壓電源；非導(dǎo)電靶材，運(yùn)用脈沖偏壓電源。有的多弧離子鍍膜機(jī)，可能還需求直流電弧電源或脈沖電弧電源

偏壓電源正本即是在陰極和樣品所在位置的陽極之間構(gòu)成偏壓電場，通常是陰極加負(fù)高壓。陰極外表的自由電子在電場效果下定向加快發(fā)射，發(fā)射電子炮擊氣體分子，使之電離，并且氣體被驅(qū)出的電子被電場加快，持續(xù)電離別的氣體分子，接二連三，構(gòu)成雪崩效應(yīng)，氣體被擊穿，構(gòu)成穩(wěn)定的電離電流。此刻離子也被加快，炮擊靶材，將靶材中的原子驅(qū)除出外表，并堆積在樣品外表。

真空電鍍設(shè)備的監(jiān)控方法

真空電鍍設(shè)備的監(jiān)控方法 1、目視監(jiān)控：使用眼睛監(jiān)控，因為薄膜在生長的過程中，由于干涉現(xiàn)象會有顏色變化，我們就是根據(jù)顏色變化來控制膜厚度的，此種方式有一定的誤差，所以不是很準(zhǔn)確，需要依靠經(jīng)驗。 2、極值監(jiān)控法：當(dāng)膜厚度增加的時候其反射率和穿透率會跟著起變化，當(dāng)反射率或穿透率走到極值點的時候，就可以知道鍍膜之光學(xué)厚度ND是監(jiān)控波長（入）的四分之一的整倍數(shù)。但是極值的方法誤差比較大，因為當(dāng)反射率或者透過率在極值附近變化很慢，亦就是膜厚ND增加很多，R/T才有變化。反映比較靈敏的位置在八分之一波長處。 3.定值監(jiān)控法：此方法利用停鍍點不在監(jiān)控波長四分之一波位，然后由計算機(jī)計算在波長一時總膜厚之反射率是多少，此即為停止鍍膜點。