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發(fā)布時間:2020-11-16 14:27  
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東莞飛宏機械有限公司,專業(yè)生產(chǎn)研發(fā)塑膠色母顆粒拋光機,拋光蠟,拋光油。拋光蠟產(chǎn)品拋光亮度好,無粉塵殘留,靜音環(huán)保。
隨著CeO2濃度的增大,氮化硅陶瓷加工表面Ra值變小,當拋光蠟濃度超過z佳濃度值后,Ra值增大。在工件折射光線時由于油脂殘留物的漫反射構(gòu)成啞光,進行除蠟水清洗后則徹底沒有研磨后的精光或許鏡面作用。其原因是: 拋光蠟濃度較低時,拋光蠟中CeO2微粒不足,即沒有足夠的CeO2微粒參與化學(xué)反應(yīng),從而使氮化硅材料的去除率較低,表面粗糙度差;當拋光蠟濃度增大時,化學(xué)機械拋光過程中參與化學(xué)反應(yīng)的原料供應(yīng)增加,加大了有效機械研磨作用,使局部溫度升高,化學(xué)反應(yīng)加速,并且生成的軟質(zhì)層被有效去除,從而實現(xiàn)了較高的去除率和加工表面質(zhì)量; 拋光蠟的濃度進一步增大時,化學(xué)作用得到進一步的增強,但是機械作用相對不足,導(dǎo)致表面粗糙度值增大。
拋光蠟廠家在環(huán)保方面對產(chǎn)品的改進
在生產(chǎn)過程中,我廠在生產(chǎn)過程中制備了一系列嚴格的人員防護措施與檢查方案,把對環(huán)境和生產(chǎn)人員的影響降到了z低。外力干擾型強迫顫振因外力來源不同分為斷續(xù)切削引起的顫振與切削形成的周期性引起的顫振。同時在生產(chǎn)工藝上,著力研制新型清潔拋光蠟,大大減少了粉塵的揮發(fā),提高拋光蠟在實際應(yīng)用中的使用效率,減少了廢棄拋光蠟和拋光蠟邊角料對環(huán)境造成的污染。
未來,我們將進一步加大研發(fā)力度,打造更高水準的清潔拋光蠟,成為一個更具責任感、影響力的良心企業(yè)。