PET真空鍍膜設備相關問題的解決方法

PET真空鍍膜設備平均水消耗量為0.6m3/小時，每小時平均耗電：850W，每30天更換5次過濾芯，更換過濾芯數(shù)量20只，每天消耗過濾芯數(shù)量：0.7只，過濾芯可后級更換前級，更換周期也可根據(jù)具體情況延長。

設備在交付時會提供操作、調試、維修等一系列全套技術資料，包括操作和維修手冊。維修手冊中含電路圖、氣路圖、水管路圖，并列出控制設備、控制元件、易耗品以及易磨損的部件名稱、型號、規(guī)格、制造商或供應商，以便用戶可以隨時修理與維護清洗設備。

ITO真空鍍膜設備生產特點

1)真空室體資料選用SUS304，真空室內壁進行拋光處理，外壁選用拋光后噴珠處理。

2)真空室之間選用獨立門閥-插板閥隔開，能夠完成有用隔斷，安穩(wěn)技能氣體。現(xiàn)在咱們至成真空科技選用插板閥規(guī)劃，它比現(xiàn)在國內通用的翻板閥密封作用非常好，更經用。

3)傳動選用磁導向，確保傳動的安穩(wěn)性。整條出產線的各段速度選用變頻調速電機驅動，運轉速度可調理。

4)真空電鍍設備電氣操控體系：觸摸屏與PLC自動操控，人機對話辦法來完成體系的數(shù)據(jù)顯現(xiàn)、操作與操控

多弧離子PVD鍍膜設備鍍工藝及應用

離子鍍基本工藝流程

①工件的預熱．

一般的離子鍍方法使用烘烤加熱裝置對工件進行加熱，而熱陰極離子鍍則是利用等離子電子束轟擊工件；電弧離子鍍是利用金屬離子轟擊工件，對工件加熱，達到預熱的目的，有時電弧離子鍍也采用輔助烘烤加熱裝置對工件進行預熱。

②離子轟擊濺射清洗．

一般離子鍍的離子轟擊濺射清洗是基片施加負偏壓，利用輝光放電產生的Ar離子轟擊基片，對基片進行離子轟擊濺射清洗，而熱陰極離子鍍是利用等離子電子束轟擊輔助陽級，Ar離子轟擊基片進行離子轟擊濺射清洗；電弧離子鍍是利用金屬離子轟擊工件，對工件加熱的同時對工件進行離子轟擊濺射清洗。

③離子沉積.

不同的離子鍍方法在離子沉積時，所使用的源和離化方法不同，具體的設備不同，沉積的膜層不同，其工藝程序和工藝參數(shù)也不同，因此，應根據(jù)具體情況確定沉積的工藝程序和工藝參數(shù)，還應注意在整個沉積過程中保持工藝參數(shù)的穩(wěn)定。

采用PVD鍍膜技術鍍出的膜層有什么優(yōu)勢

采用PVD鍍膜技術鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數(shù)）、很好的耐腐蝕性和化學穩(wěn)定性等特點，膜層的壽命更長；同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。PVD膜層能直接鍍在不銹鋼、硬質合金上、鈦合金、陶瓷等表面，對鋅合金、銅、鐵等壓鑄件應先進行化學電鍍鉻，然后才適合鍍PVD。PVD鍍膜技術是一種能夠真正獲得微米級鍍層且無污染的環(huán)保型表面處理方法，它能夠制備各種單一金屬膜（如鋁、鈦、鋯、鉻等）、氮化物膜（TiN[鈦金]、ZrN〔鋯金〕、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN），以及氧化物膜（如TiO等）。PVD鍍膜膜層的厚度為微米級，厚度較薄，一般為0.1μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.1μm~2μm，因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學性能，并能夠維持工件尺寸基本不變，鍍后不須再加工。

多弧離子真空鍍膜機鍍膜技術具有以下特點：可以任意安裝使薄膜均勻。外加磁場可以改善電弧放電；使電弧細碎；旋轉速度加快；細化膜層微粒；對帶電粒子產生加速作用。金屬離化率高，有利于薄膜的均勻性和提高附著力，是實現(xiàn)離子鍍膜的良好工藝。一弧多用，既是蒸發(fā)源，又是預轟擊凈化源和離化源。