DLC真空鍍膜設備的分類與應用

金剛石膜(DLC)真空鍍膜設備是專業(yè)在塑料玻璃金屬等表面進行蒸發(fā)鍍鋁、鉻、一氧化硅的專用設備，DLC真空鍍膜設備鍍出的膜層牢固且細密環(huán)保，我們日常生活中都離不開DLC真空鍍膜設備。

金剛石膜(DLC)真空鍍膜設備主要是（集）直流磁控濺射，中頻濺射和電弧離子蒸發(fā)三種技術融合一體，結合線性離化源及脈沖偏壓鍍膜可使沉積顆粒細化膜層各項性能提高，能在金屬制品及非金屬表面鍍制合金膜、化合物膜、多層復合膜等。

經(jīng)至成真空科技技術人員多年專注研發(fā)，通過特有的陰極電弧離子和非平衡磁控系統(tǒng)，開發(fā)出整套PROPOWER系列計算機自動控制系統(tǒng)，使鍍膜層附著有力致密、從復度一致性好等特點；

解決了人工手動操作復雜性、膜層顏色不一致等問題。廣泛適用于手表、手機殼、五金、潔具、餐具及要求耐磨起硬的刀具、模具等。鍍制TiN、TiCN、CrN、TiALN、TiNbN、TiCrN、TiNC等。

DLC鍍膜設備技術作為一種產(chǎn)生特定膜層的技術，在現(xiàn)實生產(chǎn)生活中有著廣泛的應用。DLC鍍膜設備技術有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。

DLC鍍膜設備是在中間設置真空室，在真空室的左右兩側設置左右大門，蒸發(fā)DLC鍍膜設備而在其中配裝蒸發(fā)裝置和磁控裝置，蒸發(fā)DLC鍍膜設備可在該雙門上預留該兩裝置的接口，以備需要時換裝。

金剛石膜(DLC)真空鍍膜設備應用于五金件、玻璃工藝品、陶瓷工藝品等，如手表、手機金屬殼、潔具、刀具、模具、電子產(chǎn)品、水晶玻璃等。

中頻磁控濺射真空鍍膜機鍍膜技術介紹

很多人不知道，磁控濺射真空鍍膜機鍍膜技術也分類型的，鍍的產(chǎn)品不一樣，使用的磁控濺射技術也是有差別，今天至成真空小編為大將講解一下中頻磁控濺射真空鍍膜機鍍膜技術，希望能幫到大家。

中頻磁控濺射真空鍍膜機鍍膜技術分靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結合力強。平衡靶源多用于半導體光學膜，非平衡多用于磨損裝飾膜。不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉磁場。但旋轉磁場需要旋轉機構，同時濺射速率要減小。旋轉磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業(yè)設備，多用磁場靜止靶源。

用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這是因為靶（陰極），等離子體，和被濺零件真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時接地技術很復雜，因而難大規(guī)模采用。為解決此問題，發(fā)明了磁控反應濺射。就是用金屬靶，加入Ar氣和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉化，與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。

磁控濺射真空鍍膜機生產(chǎn)相關知識

跟鍍膜行業(yè)有接觸的工作人員，幾乎人人都知道磁控濺射技術，它在現(xiàn)今市場應用非常廣泛，各行各業(yè)鍍膜層都大量投入使用，獲得眾多商家和客戶的認可。今天至成小編為大家詳細介紹一下磁控濺射真空鍍膜機生產(chǎn)方面的相關知識。專業(yè)磁控濺射真空鍍膜機生產(chǎn)實現(xiàn)蒸鍍、封裝、測試等工藝全封閉制作，使整個薄膜生長和器件制備過程高度集成在一個完整的可控環(huán)境氛圍的系統(tǒng)中，消除有機大面積電路制備過程中大氣環(huán)境中不穩(wěn)定因素影響，保障了、大面積有機光電器件和電路的制備。

控制系統(tǒng)特點：

1）采用具有超溫偏差保護、專業(yè)磁控濺射生產(chǎn)數(shù)字顯示的微電腦P.I.D溫度控制器，帶有定時功能，控溫精準可靠。

2）超溫保護、定時停機、來電恢復、溫度修正等功能。

3）具有斷電恢復功能，在外電源突然失電又重新來電后，專業(yè)磁控濺射真空鍍膜機可自動按原設定程序恢復運行。安全裝置：A）慮周全的安全保護設計，實現(xiàn)對人員、樣品和設備的三重安全保護。B）全功能：傳感器故障報警、超溫報警、獨立式過升防止器、獨立式超溫保護器、過電流跳閘保護等。