感光(曝光)完成后就要進(jìn)行下一步工作——顯影。顯影的目的是通過(guò)顯影藥將未曝光的地方?jīng)_走，經(jīng)過(guò)曝光的地方固化，這樣就能確定需要被腐蝕和不被腐蝕的圖案。以便后續(xù)蝕刻加工的精度。

曝光顯影：指在攝影過(guò)程中進(jìn)入鏡頭照射在感光元件上的光量，由光圈、快門、感光度的組合來(lái)控制。通常是指使感光紙或攝影膠片感光，攝影感光材料的感光。在印刷、影印、復(fù)印、曬圖等行業(yè)中，讓影像顯現(xiàn)的一個(gè)過(guò)程。通常指在復(fù)印機(jī)、打印機(jī)中顯影就是用帶電的色粉使感光鼓上的靜電潛像轉(zhuǎn)變成可見(jiàn)的色粉圖像的過(guò)程。

曝光顯影直接決定蝕刻圖案的準(zhǔn)確性，因此在制作上，需要非常準(zhǔn)確和清晰。操作人員要規(guī)范作業(yè)，避免圖案模糊或者移位影響產(chǎn)品品質(zhì)。經(jīng)過(guò)不斷改良和工藝設(shè)備發(fā)展，曝光就是光圈、快門和感光度ISO的組合。其中光圈和速度聯(lián)合決定進(jìn)光量，ISO決定ISOCCD/CMOS的感光速度。顯影包括正顯影和反轉(zhuǎn)顯影；正顯影中顯影色粉所帶電荷的極性，與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性是相反的，反轉(zhuǎn)顯影中感光鼓與色粉電荷極性是相同的。


當(dāng)需要較深的蝕刻要求時(shí)材料的因素并不重要（材質(zhì)質(zhì)量大差例外），同時(shí)為了生產(chǎn)效率的需要，要通過(guò)對(duì)蝕刻溶液濃度、配方組成的調(diào)整及蝕刻物理參數(shù)的調(diào)整來(lái)提高蝕刻速度，即便是這樣也不需要"越快越好的蝕刻速度。因?yàn)樘斓乃俣葧?huì)使溶液成分變化太快，會(huì)反過(guò)來(lái)影響到物理參數(shù)的控制難度，同時(shí)也會(huì)使被蝕刻的金屬表面溶解速度不能一致，使蝕刻后的表面平滑度降低。