真空鍍膜設(shè)備真空泵的選擇

1、真空泵工作時(shí)產(chǎn)生的振動(dòng)對(duì)工藝過程及環(huán)境有無影響。若工藝過程不允許，應(yīng)選擇無振動(dòng)的泵或者采取防振動(dòng)措施。

2、了解被抽氣體成分，氣體中含不含可凝蒸氣，有無顆?；覊m，有無腐蝕性等。選擇真空泵時(shí)，需要知道氣體成分，針對(duì)被抽氣體選擇相應(yīng)的泵。如果氣體中含有蒸氣、顆粒、及腐蝕性氣體，應(yīng)該考慮在泵的進(jìn)氣口管路上安裝輔助設(shè)備，如冷凝器、除塵器等。

3、真空泵在其工作壓強(qiáng)下，應(yīng)能排走真空設(shè)備工藝過程中產(chǎn)生的全部氣體量。

4、真空設(shè)備對(duì)油污染的要求。若設(shè)備嚴(yán)格要求無油時(shí)，應(yīng)該選各種無油泵，如：水環(huán)泵、分子篩吸附泵、濺射離子泵、低溫泵等。如果要求不嚴(yán)格，可以選擇有油泵，加上一些防油污染措施，如加冷阱、障板、擋油阱等，也能達(dá)到清潔真空要求。

真空鍍膜機(jī)工件除氣的必要性和真空鍍膜機(jī)分類介紹

真空狀態(tài)是支持真空鍍膜機(jī)運(yùn)作的環(huán)境，特別是需要高真空度的設(shè)備，通常我們需要達(dá)到高真空度，抽氣系統(tǒng)的作用是功不可沒的，但除了抽氣系統(tǒng)外，在真空鍍膜設(shè)備運(yùn)行的過程中，還有一點(diǎn)就是，工件的除氣。

有些工件它本身內(nèi)部存在著很多的氣體、水分等，這些物質(zhì)都會(huì)隨著設(shè)備加熱時(shí)被排放到真空室中，降低了真空度，更甚者，有些氣體帶有毒性成分，直接損害到真空室內(nèi)部機(jī)械結(jié)構(gòu)，造成設(shè)備不能正常運(yùn)作。另外，正在鍍膜過程中，由于工件內(nèi)氣體加熱膨脹，容易使已經(jīng)鍍上的膜層裂開，當(dāng)然這個(gè)情況出現(xiàn)的機(jī)率視工件本身物理性質(zhì)有關(guān)，像塑料等容易膨脹的，機(jī)率就比較高，像金屬等硬質(zhì)的，機(jī)率就比較低，但也不能忽視，因此工件的除氣是非常必要的。

通常我們使用的工件除氣方法是烘烤，通過加熱把工件內(nèi)的氣體、水分排出，在鍍膜前，抽氣的同時(shí)，對(duì)工件進(jìn)行加熱，當(dāng)工件內(nèi)水分和氣體由于加熱而放出后，隨著真空室內(nèi)的氣體一起被真空泵抽出。

針對(duì)不同的工件采取不一樣的除氣措施，有效控制工件內(nèi)部氣體與水分排放，提高鍍膜的穩(wěn)定性和均勻性。真空鍍膜機(jī)分類和適用范圍真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

真空鍍膜機(jī)的自控檢測(cè)裝置

真空鍍膜機(jī)有一個(gè)自控檢測(cè)裝置，它可以被動(dòng)的進(jìn)行動(dòng)態(tài)防護(hù)。在實(shí)際運(yùn)用過程中，為了研究和改進(jìn)檢測(cè)裝置，考慮到溫度影響過濾材料的吸附和吸收性能，會(huì)將裝置置于空調(diào)房間。濕度一方面影響過濾材料吸濕，又會(huì)對(duì)試劑吸收性能產(chǎn)生影響，要求嚴(yán)格控制。根據(jù)催化劑測(cè)定管和比速來確定，流量的大小與動(dòng)態(tài)防護(hù)時(shí)間成反比，試劑濃度與動(dòng)態(tài)防護(hù)時(shí)間也成反比，其波動(dòng)還會(huì)影響到終點(diǎn)確定。

為了滿足要求不時(shí)的也會(huì)做出各種改進(jìn)，主要方面有用E E29型溫濕度傳感器代替了干濕球濕度計(jì)，通過控制干濕兩路流量比，代替了原來的玻璃調(diào)濕槽，采用噴射泵技術(shù)，在較低的試劑壓力下，實(shí)現(xiàn)了長(zhǎng)時(shí)間試劑均勻混合，濃度穩(wěn)定。

真空鍍膜機(jī)和蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)的差異

真空鍍膜機(jī)是在中間設(shè)置真空室，在真空室的左右兩側(cè)設(shè)置左右大門，而在其中配裝蒸發(fā)裝置和磁控裝置，可在該雙門上預(yù)留該兩裝置的接口，以備需要時(shí)換裝。真空鍍膜機(jī)一般都是由真空系統(tǒng)、蒸發(fā)系統(tǒng)、薄膜卷繞系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等主要部分組成。

當(dāng)薄膜運(yùn)行速度達(dá)到一定數(shù)值后，打開擋板使氣態(tài)鋁微粒在移動(dòng)的薄膜基材表面沉積、冷卻即形成一層連續(xù)而光亮的金屬鋁層。

通過控制金屬鋁的蒸發(fā)速度、基材薄膜的移動(dòng)速度等來控制鍍鋁層的厚度，一般鍍鋁層厚度在250～500。而蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)是專業(yè)在塑料表面進(jìn)行蒸發(fā)鍍鋁、鉻、一氧化硅的設(shè)備，鍍出的膜層牢固且細(xì)密，是工業(yè)化生產(chǎn)的理想設(shè)備，其特點(diǎn)是它的環(huán)保性，真空鍍膜設(shè)備屬于無三廢、無污染的清潔生產(chǎn)設(shè)備，無須環(huán)保部門審批。分為立式和臥式。

蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備成膜速率快，膜層牢固，色澤鮮亮，膜層不易受污染，可獲得致密性好、純度高、膜厚均勻的膜層，不產(chǎn)生廢液、廢水，可避免對(duì)環(huán)境的污染，是大規(guī)模生產(chǎn)的理想設(shè)備。離子真空鍍膜機(jī)是當(dāng)今世界上用于表面涂裝PVD膜層的先進(jìn)設(shè)備,運(yùn)用PLC及觸摸屏實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化邏輯程序控制操作,設(shè)備結(jié)構(gòu)合理、外觀優(yōu)雅、性能穩(wěn)定、操作達(dá)到人機(jī)對(duì)話，簡(jiǎn)便。