EDI設備的污染判斷及清洗方法

EDI設備的污染判斷及清洗方法 雖然EDI膜塊的進水條件在很大的程度上減少了膜塊內(nèi)部阻塞的機會，但是隨著設備運行時間的延展，EDI膜塊內(nèi)部水道還是有可能產(chǎn)生阻塞，這主要是EDI進水中含有較多的溶質(zhì)，在濃水室中形成鹽的沉淀。如果進水中含有大量的鈣鎂離子（硬度超過0.8ppm）、CO2和較高的 PH 值，將會加快沉淀的速度。遇到這種情況，我們可以通過化學清洗的方法對EDI膜塊進行清洗，使之恢復到原來的技術特性。

高純水的含量小于0

什么是高純水 高純水是化學純度極高的水，其中的雜質(zhì)的含量小于0.1mg/L，一般在電子、、航天或其他特殊行業(yè)工藝生產(chǎn)中，為了達到產(chǎn)品所需工藝用水，一般需要電導率0.055μS/cm（電阻率18.2 MΩ?cm）的理論純水，統(tǒng)稱為高純水或超純水 目前人們制成的高純水的純度已經(jīng)達到99.999999%，其中雜質(zhì)含量低于0.01mg/L，將水中的導電介質(zhì)幾乎全部去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體和有機物均去除至很低程度的水。高純水的含鹽量在0. 3mg/L以下，電導率小于0. 2μs/cm。

用高純水設備的特點

高純水設備特點 1、水進入用高純水設備系統(tǒng)，主要部分流入樹脂/膜內(nèi)部，而另一部分沿模板外側流動，以洗去透出膜外的離子。 2、樹脂截留水中的溶存離子。 3、被截留的離子在電極作用下，陰離子向正極方向運動，陽離子向負極方向運動。 4、陽離子透過陽離子膜，排出樹脂/膜之外。 5、陰離子透過陰離子膜，排出樹脂/膜之外。 6、濃縮了的離子從廢水流路中排出。 7、無離子水從樹脂/膜內(nèi)流出。

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