提高分辨力一直是光刻技術(shù)發(fā)展的主旋律，由瑞利公式R=K1λ/NA可知，縮短波長是提高分辨力的有效手段。每次更短波長光刻的應用，都促使集成電路性能得到極大提升。

　光電所采用三角法測量，Z向位移轉(zhuǎn)化為標記光柵與檢測光柵橫向位移ΔX，通過兩光路的信號比對橫向位移量ΔX進行檢測，實現(xiàn)檢焦。英國Cranfield大學精密工程研究所(CUPE)研制的大型超精密金剛石鏡面切削機床，可以加工大型X射線天體望遠鏡用的非球面反射鏡(大直徑可達1400mm，大長度為600mm的圓錐鏡)。該方法的兩光路結(jié)構(gòu)設計相同，兩信號相位相差，利用兩光路的信號比求解硅片的離焦量，消除了光強波動的影響，實現(xiàn)了納米級的檢焦精度。