公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶(hù)的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

光刻掩模版通常用石英玻璃做為化學(xué)反應(yīng)，選用方解石是因?yàn)槠涞慕贤饩€(xiàn)穿透率。掩模版遮光一部分用Cr，因此有時(shí)候也叫鉻板。選用燈的g線(xiàn)應(yīng)i線(xiàn)，在于你常用的光刻膠，每個(gè)光刻膠產(chǎn)品介紹都是列舉其所比較敏感的納米段。 

光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)和工作原理：

　　光刻機(jī)的光源有：激光，紫外光、深紫外光、極紫外光。現(xiàn)在先進(jìn)技術(shù)是極紫外光。

　　下圖是以激光為光源的光刻機(jī)簡(jiǎn)易工作原理圖：

　　在制造芯片時(shí)，首先在晶圓（硅晶片）表面涂光感膠，再用光線(xiàn)透過(guò)掩模版（相當(dāng)于芯片電路圖紙的底片）照射硅片表面，被光線(xiàn)照射到的光感膠會(huì)發(fā)生反應(yīng)。此后用特定溶劑洗去被照射或者未被照射的膠，電路圖就印到硅片上。

　　此過(guò)程相當(dāng)于木匠施工用墨斗放樣、劃線(xiàn)。

　　硅片上有了電路圖的圖樣后，就輪到刻蝕機(jī)登場(chǎng)，刻蝕機(jī)相當(dāng)于木匠的鋸子、斧頭、鑿子、刨子?？涛g機(jī)按圖施工，在硅片表面雕刻出晶體管和電路。

掩模板是根據(jù)放大了的原圖制備的帶有透明窗口的模板。例如，可以用平整的玻璃板，涂覆上金屬鉻薄膜，通過(guò)類(lèi)似照相制版的方法制備而成。具有微納圖形結(jié)構(gòu)的掩模板通常使用電子束光刻機(jī)直接制備，其制作過(guò)程就是典型的光刻工藝過(guò)程，包括金屬各層沉積、涂膠、電子束光刻、顯影、鉻層腐蝕及去膠等過(guò)程。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過(guò)曝光過(guò)程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。

光致抗蝕劑也被稱(chēng)為光致抗蝕劑。掩模板上的圖案被轉(zhuǎn)移到晶片表面頂層的光致抗蝕劑上，并且在后續(xù)工藝中保護(hù)下面的材料(蝕刻或離子注入)。光致抗蝕劑由光敏樹(shù)脂、光引發(fā)劑、添加劑、溶劑等組成。其中，光敏樹(shù)脂是光刻膠的關(guān)鍵成分。