PVD是物理氣相沉積技術(shù)的簡稱，是指在真空條件下，采用物理的方法將材料（俗稱靶材或膜料）氣化成氣態(tài)分子、原子或離子，并將其沉積在工件形成具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)，常見的PVD沉積技術(shù)有：蒸發(fā)技術(shù)、濺射技術(shù)、電弧技術(shù)。

離子鍍膜技術(shù)是PVD技術(shù)的一種，是指在PVD沉積過程中，被鍍材料形成金屬或者非金屬等離子體（如Ti離子，N離子），等離子體在偏壓電場的作用下，沉積在工件表面上。由于離子鍍過程中，離子的能量更強(qiáng)，離子繞射性更好，膜層的結(jié)合力更好，膜層致密性也更好，膜層性能更好。

玻璃鍍膜設(shè)備是利用真空磁控濺射方式在浮法玻璃表面進(jìn)行鍍膜的專業(yè)設(shè)備，鍍膜艙室真空度為1.0E-6mbar的高真空，生產(chǎn)線采用真空磁控濺射方式在玻璃表面進(jìn)行鍍膜，保持高真空環(huán)境是玻璃鍍膜設(shè)備的基本條件。

玻璃鍍膜設(shè)備由真空腔室、鍍膜腔室、狹縫閥、工藝介質(zhì)平臺(tái)、狹縫閥、傳動(dòng)系統(tǒng)、液壓設(shè)備、冷卻系統(tǒng)、放氣系統(tǒng)、壓縮空氣系統(tǒng)、冷卻水系統(tǒng)等組成，采用電氣程序全自動(dòng)控制。

玻璃基片通過傳動(dòng)輥道實(shí)現(xiàn)水平直線傳輸，依次經(jīng)過鎖室、緩沖室、過渡室進(jìn)入工藝腔室，鍍膜工藝完成后，經(jīng)過渡室、緩沖室、鎖室傳出。傳動(dòng)輥道間通過同步齒形皮帶聯(lián)動(dòng)，傳動(dòng)輥道由減速機(jī)通過施密特聯(lián)軸器、剛性聯(lián)軸器等與輥道相連。真空系統(tǒng)主要通過各種真空泵來實(shí)現(xiàn)，在生產(chǎn)線各個(gè)關(guān)鍵位置均安裝各級(jí)真空規(guī)測(cè)量真空度。

塑膠鍍膜設(shè)備腔室維護(hù)完畢后，開始抽真空，抽真空的時(shí)間為36～48小時(shí)，期間在腔室真空達(dá)到一定程度時(shí)，進(jìn)行真空測(cè)漏，真空測(cè)漏沒有問題并且腔室真空達(dá)到工藝條件后，就可以進(jìn)行生產(chǎn)準(zhǔn)備了。維護(hù)之前的破空（從真空狀態(tài)回到大氣狀態(tài)）需要 2 個(gè)小時(shí)，之后再對(duì)所有需要吊裝的陰極及泵艙吹水之后就可以進(jìn)行艙室維護(hù)了。

塑膠鍍膜設(shè)備生產(chǎn)特點(diǎn)來看，腔室中所有設(shè)備部件的檢查、維修要集中在艙室維護(hù)期間進(jìn)行，并且要保證這些裝置工作的可靠性，否則，如果在正常生產(chǎn)期間出現(xiàn)問題，僅僅腔室破空和抽氣就需要 40 多個(gè)小時(shí)，對(duì)生產(chǎn)的影響巨大。